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J-GLOBAL ID:201703019865054271

露光装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (5): 大野 聖二 ,  小林 英了 ,  松野 知紘 ,  酒谷 誠一 ,  野本 裕史
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2017176600
Publication number (International publication number):2017215621
Application date: Sep. 14, 2017
Publication date: Dec. 07, 2017
Summary:
【課題】投影光学系の開口数が増大しても投影光学系からの露光光を受光して、各種の計測を行うことができる露光装置等を提供する。【解決手段】露光装置は、投影光学系と、投影光学系の像面側に配置された基板上に供給される液体とを介して基板に露光光を照射する。露光装置は、投影光学系に対して移動可能なステージと、ステージに設けられ、投影光学系に対向して配置された状態で液体に接する第1面、および投影光学系と液体とを介して第1面から入射した露光光を射出させる第2面を有する光学部材と、第2面から射出した露光光を受光する受光面を有し、受光面と第2面との間に気体を介在させて配置される受光素子と、を備える。第2面は、少なくとも1つの曲面が形成された曲面部と、凹凸が形成された凹凸部との少なくとも一方を含む。【選択図】図5
Claim (excerpt):
照明系からの露光光を、投影光学系と液体とを介して基板上に照射することによって前記基板を露光する露光装置において、 前記投影光学系の像面側に配置された光透過部を介して、前記投影光学系を通過した露光光を受光する受光器を有する計測手段を備え、 前記投影光学系と前記光透過部との間に液体がない状態で、前記計測手段の受光器で前記投影光学系を通過した露光光を受光することを特徴とする露光装置。
IPC (1):
G03F 7/20
FI (2):
G03F7/20 521 ,  G03F7/20 501
F-Term (31):
2H197AA06 ,  2H197AA09 ,  2H197AA12 ,  2H197AA44 ,  2H197BA05 ,  2H197BA10 ,  2H197BA11 ,  2H197BA17 ,  2H197BA21 ,  2H197CA01 ,  2H197CA06 ,  2H197CA08 ,  2H197CB02 ,  2H197CC01 ,  2H197CC02 ,  2H197CC03 ,  2H197CC14 ,  2H197CD12 ,  2H197CD43 ,  2H197CD48 ,  2H197DB05 ,  2H197DB06 ,  2H197DB10 ,  2H197DB27 ,  2H197DB29 ,  2H197DC02 ,  2H197DC14 ,  2H197HA03 ,  2H197HA04 ,  2H197HA05 ,  2H197HA10
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
  • 特許第4466300号
  • リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2003-381339   Applicant:エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
  • リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2004-247643   Applicant:エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
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Cited by examiner (5)
  • 特許第4466300号
  • リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2003-381339   Applicant:エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
  • リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2004-247643   Applicant:エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
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