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J-GLOBAL ID：200903002514292114

露光装置

Inventor：
大嵜 美紀

About 大嵜 美紀


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 藤元 亮輔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003409881
Publication number (International publication number)：2005175034
Application date： Dec. 09, 2003
Publication date： Jun. 30, 2005
Summary：
【課題】 高NAの投影光学系を用いた場合(例えば、液浸型や1<NA)において、装置の大型化を招くことなく、高精度なアライメントを実現し、解像度に優れた露光を行うことができる露光装置を提供する。【解決手段】 レチクルに形成されたパターンを被処理体に投影光学系を利用して結像する露光装置であって、前記レチクルと前記被処理体との位置合わせの基準となる基準マークと、前記投影光学系の少なくとも一部と前記被処理体との間及び前記投影光学系の少なくとも一部と前記基準マークとの間を満たす1よりも大きい屈折率を有する第1の液体と、前記投影光学系及び前記液体を利用して前記被処理体の位置合わせを行うアライメント機構とを有することを特徴とする露光装置を提供する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
レチクルに形成されたパターンを被処理体に投影光学系を利用して結像する露光装置であって、 前記レチクルと前記被処理体との位置合わせの基準となる基準マークと、 前記投影光学系の少なくとも一部と前記被処理体との間及び前記投影光学系の少なくとも一部と前記基準マークとの間を満たす1よりも大きい屈折率を有する第1の液体と、 前記投影光学系及び前記液体を利用して前記被処理体の位置合わせを行うアライメント機構とを有することを特徴とする露光装置。
IPC (2)：
H01L21/027 ,  G03F7/20
FI (2)：
H01L21/30 525R ,  G03F7/20 521
F-Term (13)：
5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046DA13 ,  5F046DB01 ,  5F046EA03 ,  5F046EA09 ,  5F046EB03 ,  5F046ED03 ,  5F046FA10 ,  5F046FA14 ,  5F046FA16 ,  5F046FB12 ,  5F046FB20
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 液浸型露光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-121757   Applicant：株式会社ニコン
Cited by examiner (11)
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