非水酸性ガス除去システムにおける水分制御

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：杉村憲司 , 結城仁美 , 高橋林太郎
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2016547074
Publication number (International publication number)：2017506150
Application date： Feb. 13, 2015
Publication date： Mar. 02, 2017
Summary：

【課題】酸性ガス除去プロセスにおける水分制御方法及び水分制御システムを提供する。【解決手段】本方法及びシステムは、(a)吸収ゾーンにおいてガス流をNAS吸収液で処理するステップと、(b)酸性ガスが付加されたNAS吸収液を再生ゾーンに送るステップと、(c)再生NAS吸収液を前記ステップ(a)に送るステップと、(d)第1組の条件及び第2組の条件を制御するステップとを含む。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

水分量を調節し、非水溶媒(NAS)吸収液を使用して含水ガス流から酸性ガスを除去するプロセスであり、 (a)吸収ゾーンにおいて、温度、圧力、及び流量に関する第1組の制御された条件下で、前記ガス流を前記NAS吸収液で処理することにより、酸性ガスを欠乏させた処理ガス流及び酸性ガスが付加されたNAS吸収液を得るステップと、 (b)温度、圧力、及び流量に関する第2組の制御された条件下で、前記酸性ガスが付加されたNAS吸収液を再生ゾーンに送るとともに、前記酸性ガスが付加されたNAS吸収液の再生処理を行って酸性ガスの一部を排出し、再生NAS吸収液を得るステップと、 (c)前記再生NAS吸収液を前記ステップ(a)に送るステップと、 (d)前記NAS吸収液から水分リッチ相を分離し、水分量を調節し、前記水分リッチガス流から酸性ガスを除去するための分離装置を設ける必要がなくなるように、前記第1組の条件及び前記第2組の条件を制御するステップとを含むプロセス。

IPC (3)：

B01D 53/14 , B01D 53/62 , B01D 53/78

FI (4)：

B01D53/14 210 , B01D53/62 , B01D53/78 , B01D53/14 220

F-Term (36)：

4D002AA09 , 4D002AB01 , 4D002AC01 , 4D002AC05 , 4D002BA02 , 4D002DA31 , 4D002DA33 , 4D002DA34 , 4D002DA53 , 4D002DA70 , 4D002EA01 , 4D002EA08 , 4D002GA01 , 4D002GA03 , 4D002GB01 , 4D002GB02 , 4D002GB04 , 4D002GB06 , 4D002GB11 , 4D002GB20 , 4D002HA08 , 4D020AA03 , 4D020BB04 , 4D020BC01 , 4D020BC02 , 4D020CC09 , 4D020CC10 , 4D020DA01 , 4D020DA03 , 4D020DB01 , 4D020DB02 , 4D020DB03 , 4D020DB04 , 4D020DB05 , 4D020DB06 , 4D020DB20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

酸-ガス分離のための再生可能な溶媒混合物
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2013-527365 Applicant：リサーチ・トライアングル・インスティチュート
燃焼排ガス中の二酸化炭素と硫黄酸化物を除去する方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-038266 Applicant：関西電力株式会社, 三菱重工業株式会社
二酸化炭素の分離回収方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-147787 Applicant：新日本製鐵株式会社

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