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J-GLOBAL ID：201802230283242287   Reference number：18A1699144

時間分解解析を用いたレーザー照射によるレジスト剥離現象の解明

Author (10)： NISHIOKA NAOKI (大阪大) ,  NISHIOKA NAOKI (大阪工大) ,  UMEDA YUJI (大阪工大) ,  FUNAMOTO YUSUKE (大阪工大) ,  SHIMA DAICHI (大阪工大) ,  KURAMAE HIROYUKI (大阪工大) ,  KAMIMURA TOMOSUMI (大阪工大) ,  HORIBE HIDEO (大阪市大) ,  YOSHIMURA MASASHI (大阪大) ,  NAKAMURA RYOSUKE (大阪大)
Material： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
Volume： 79th  Page： ROMBUNNO.20a-224A-3  Publication year： Sep. 05, 2018 
JST Material Number： Y0055B  ISSN： 2758-4704  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *laser irradiation ,  *photoresist ,  time resolved spectroscopy ,  time resolution ,  semiconductor process ,  lithography ,  *remover ,  residue (object) ,  waste water treatment ,  finite element method ,  numerical analysis ,  laser ablation
Semi thesaurus term： laser ablation in liquids

JST classification (2)： Laser irradiation effects and damages  (BK16040S) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (5)： 分解 ,  解析 ,  レーザー照射 ,  レジスト ,  剥離現象