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J-GLOBAL ID：200901034818517416   Update date: Mar. 25, 2024

Horibe Hideo

堀邊 英夫 | Horibe Hideo
Affiliation and department：
Osaka Metropolitan University Department of Chemistry and Bioengineering, Division of Science and Engineering for Materials, Chemistry and Biology, Graduate School of Engineering

About Osaka Metropolitan University Department of Chemistry and Bioengineering, Division of Science and Engineering for Materials, Chemistry and Biology, Graduate School of Engineering


Job title： Professor
Homepage URL  (1)： https://www.omu.ac.jp/eng/polymer2021_lab/
Research field  (4)： Composite materials and interfaces ,  Structural and functional materials ,  Polymer materials ,  Polymer chemistry
Research keywords  (20)： Resist ,  PVDF ,  原子状水素 ,  オゾン ,  導電性複合材料 ,  PVDF/PMMA ,  イオンビーム ,  感光性樹脂(レジスト) ,  リソグラフィー ,  微細加工技術 ,  高分子化学 ,  atomic hydrogen ,  ozone ,  Polymer Composites Filled with Electrical Filler ,  PVDF/PMMA ,  ion beam ,  resist ,  lithography ,  ultra-fine processing technology ,  polymer chemistry
Research theme for competitive and other funds  (24)：
  • 2022 - 2025 Semiconductor device foundry achieved at a nanotech platform established on an average science lab.
  • 2022 - 2025 Formation of double roughness structures on surface of polymer blend film using atmospheric pressure low temperature plasma
  • 2021 - 2024 Reduction of room temperature resistivity by morphology control of conductive composites for permanent fuse
  • 2019 - 2023 水素ラジカルによるポリマー材料の分解・除去における酸素微量添加効果の解明
  • 2018 - 2021 Development of high performance resist removal technique using laser irradiation for environmental load reduction in semiconductor production
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Papers (108)：
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MISC (333)：
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Patents (171)：
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Books (7)：
  • コンポジット材料の紺練・コンパウンド技術と分散・界面制御 第6章 第5節 導電フィラー分散樹脂の温度に対する電気特性
    技術情報協会 2013
  • レジストエッチング-水素ラジカルによるレジスト除去-
    シーエムシー出版(触媒CVD(Cat-CVD)の新展開) 2008
  • マスク枚数削減のための新規プロセス-ハーフトーンマスク用多層レジスト技術-
    情報機構 2008
  • 新規なレジスト剥離技術
    情報機構 2008
  • 導電性材料ノウハウ集-配合/設計/評価のポイント-
    情報機構発行 2007
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Lectures and oral presentations  (591)：
  • Hot-wire法により生成した水素ラジカルによるレジスト材料の分解反応機構I
    (第59回応用物理学関係連合講演会 2012)
  • 湿潤オゾンを用いたレジスト除去における反応メカニズムの解明(II)
    (第59回応用物理学関係連合講演会 2012)
  • プラズマプロセス中における有機薄膜表面反応の実時間・その場観察電子スピン共鳴(ESR)解析(3)
    (第59回応用物理学関係連合講演会 2012)
  • 溶解抑制剤を添加した3成分系化学増幅型EUVレジストの開発II
    (第59回応用物理学関係連合講演会 2012)
  • イオン注入レジストの構造解析(2)
    (第59回応用物理学関係連合講演会 2012)
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Education (1)：
  • 1981 - 1985 Kyoto University Faculty of Engineering
Professional career (1)：
  • PhD (Osaka University)
Work history (13)：
  • 2022/04 - 現在 Osaka Metropolitan University
  • 2017 - 現在 Kanazawa University
  • 2017 - 現在 Kochi University of Technology
  • 2013 - 現在 Osaka City University Graduate School of Engineering, Applied Chemistry and Bioengineering Course
  • 2007 - 現在 Osaka University
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Committee career (21)：
  • 2019/04 - 現在 キンカ エレクトロニクス部会 委員
  • 2019/04 - 現在 大阪工研協会 副部会長
  • 2018/04 - 現在 ラドテック研究会 理事
  • 2017/04 - 現在 フォトポリマー懇話会 副会長
  • 2017/04 - 現在 関西コンバーティングものづくり研究会 会長
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Awards (5)：
  • 2017/11 - 第65回電気科学技術奨励賞
  • 2017/05 - 平成28年度大阪ニュークリアサイエンス協会(ONSA)賞
  • 2013/03 - 第11回プラズマエレクトロニクス賞
  • 2007/03 - 第14回平賀源内大賞
  • 1995/05 - 第46回化学技術賞
Association Membership(s) (10)：
Cat-CVD研究会 ,  The Society of Polymer Science ,  Japanese Society of Radiation Chemistry ,  応用物理学会 ,  HWCVD ,  EM-NANO ,  関西コンバーティングものづくり研究会 ,  THE JAPAN SOCIETY OF POLYMER PROCESSING ,  フォトポリマー学会 ,  ラドテック研究会
※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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