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J-GLOBAL ID：201802233269066671   Reference number：18A2149226

Comparative investigation on DLC films prepared by Reactive High-Power Impulse Magnetron Sputtering of Ar/CH₄ and Ar/C₂H₄ Mixture

反応性高出力インパルスマグネトロンスパッタリング法により作製したDLC膜のAr/CH₄およびAr/C₂H₄混合物の比較検討

Author (2)： SAKAI K. (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN) ,  KIMURA T. (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
Material： Proceedings of International Symposium on Dry Process  (Proc Int Symp Dry Process)
Volume： 40th  Page： 145-146  Publication year： 2018 
JST Material Number： Y0378B  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *DLC film ,  *Argon ,  *mixture ,  reactive sputtering ,  *magnetron sputtering ,  *evaporated film ,  Raman spectrum ,  Raman spectroscopy ,  rate of sedimentation ,  internal stress ,  spectral line shift ,  Raman shift ,  alkane ,  alkene
Semi thesaurus term： *HiPIMS

JST classification (3)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Carbon and its compounds  (YB02060D)

Substance index (2)： Methane ,  Ethylene

Terms in the title (9)： 反応性 ,  高出力 ,  インパルス ,  マグネトロンスパッタリング ,  作製 ,  DLC膜 ,  Ar ,  混合物 ,  比較検討