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J-GLOBAL ID：201802260100325063   Reference number：18A2020323

Effects of discharge gas species (Ar, Kr) on fabrication of Spindt type emitter cathode using high power pulsed magnetron sputtering

大電力パルススパッタ法によるスピント型陰極作製における放電ガス(アルゴン,クリプトン)の効果

Author (6)： TANIGUCHI HYUGA (成蹊大 理工) ,  OYA KEI (成蹊大 理工) ,  NAKANO TAKEO (成蹊大 理工) ,  NAGAO MASAYOSHI (産業技術総合研) ,  OSAKI HISASHI (産業技術総合研) ,  MURAKAMI KATSUHISA (産業技術総合研)
Material： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
Volume： 118  Issue： 263(ED2018 26-31)  Page： 5-8  Publication year： Oct. 17, 2018 
JST Material Number： S0532B  ISSN： 0913-5685  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： internal stress ,  *sputtering ,  *electric power ,  electrode material ,  compressive stress ,  molybdenum ,  krypton ,  *field emission array ,  aspect ratio
Semi thesaurus term： cathode material ,  *high power

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (9)：

• C. A. Spindt, ′′A thin-film field-emission cathode′′, J. Appl. Phys., Vol. 39, pp. 3504-3505, 1968.
• S. Itoh, M. Tanaka, ′′Current status of field-emission displays′′, Proc. of IEEE, Vol. 90, Issue 4, pp.514-520, 2002.
• Y. Honda, M. Nanba, K. Miyakawa, M. Kubota, M. Nagao, Y. Neo, H. Mimura, and N. Egami, ′′Electrostatic-focusing image sensor with volcano-structured Spindt-type field emitter array,′′ J. Vac. Sci. Technol. B, Vol.34, No.2, 052201, 2016.
• M. Nagao, T. Yoshida, ′′Fabrication of gated nano electron source for vacuum nanoelectronics′′, Microelectron. Eng., Vol. 132, pp. 14-20, 2015.
• T. Nakano, T. Narita, K. Oya, M. Nagao, H. Ohsaki, ′′Fabrication of Mo microcones for double-volcano type Spindt emitter cathode using triode high power pulsed magnetron sputtering′′, J. Vac. Sci. Technol. B, Vol 35, Issue 2, 022204, 2017.

Terms in the title (8)： 大電力 ,  パルス ,  スパッタ法 ,  陰極 ,  作製 ,  放電ガス ,  アルゴン ,  クリプトン