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J-GLOBAL ID：201802275226513697   Reference number：18A0630866

上部Al電極膜を赤外線照射下でスパッタ堆積した有機EL素子

Author (4)： HOSHI YOICHI (東京工芸大 工) ,  YASUDA YOJI (東京工芸大 工) ,  KOBAYASHI SHIN'ICHI (東京工芸大 工) ,  UCHIDA TAKAYUKI (東京工芸大 工)
Material： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
Volume： 65th  Page： ROMBUNNO.17p-D102-16  Publication year： Mar. 05, 2018 
JST Material Number： Y0054B  ISSN： 2436-7613  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： Aluminum ,  *sputtered deposition ,  metallic thin film ,  infrared radiation ,  infrared irradiation ,  electrode ,  *electroluminescence ,  *light emitting diode ,  organic semiconductor ,  radiance ,  current-voltage characteristic ,  organic EL ,  *organic EL device

JST classification (1)： Light emitting devices  (NC03082G)

Terms in the title (4)： Al ,  赤外線照射 ,  スパッタ堆積 ,  有機EL素子