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J-GLOBAL ID：201802283585904425   Reference number：18A1365906

低速陽電子ビームによるシリカプラズマ重合膜のサブナノ細孔解析

Author (7)： YOSHIMOTO SHIGERU (東レリサーチセ) ,  YOSHIMOTO SHIGERU (産業技術総合研) ,  ITO KENJI (産業技術総合研) ,  KUMAGAI KAZUHIRO (産業技術総合研) ,  HOSOMI HIROYUKI (東レリサーチセ) ,  TAKEDA MASAAKI (東レリサーチセ) ,  TSURU TOSHINORI (広島大)
Material： アイソトープ・放射線研究発表会要旨集
Volume： 55th  Page： 64  Publication year： Jun. 20, 2018 
JST Material Number： S0636B  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *positron beam ,  *membrane and film ,  pore ,  *pore structure ,  positron annihilation ,  ellipsometry ,  porosity (ratio) ,  plasma CVD ,  positronium ,  pore diameter ,  adsorption isotherm ,  *plasma polymerization ,  heat treatment ,  *silica membrane ,  Nanopores ,  annealing effect ,  aliphatic alcohol
Semi thesaurus term： 陽電子消滅寿命測定法 ,  orthopositronium ,  annealing effect

JST classification (2)： Physical properties of polymer solids  (CG02024U) ,  Exotic atoms and molecules  (BH09010S)

Substance index (2)： Tetraethoxysilane ,  Methanol

Terms in the title (6)： 低速陽電子ビーム ,  シリカ ,  プラズマ重合膜 ,  サブ ,  ナノ細孔 ,  解析