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J-GLOBAL ID：201802284356090111   Reference number：18A0910745

Noncontact measurement of substrate temperature by optical low-coherence interferometry in high-power pulsed magnetron sputtering

高出力パルスマグネトロンスパッタリングにおける低コヒーレンス干渉法による基板温度の非接触測定

Author (4)： HATTORI Katsuhiro (Meijo Univ., Nagoya, JPN) ,  OHTA Takayuki (Meijo Univ., Nagoya, JPN) ,  ODA Akinori (Chiba Inst. of Technol., Chiba, JPN) ,  KOUSAKA Hiroyuki (Gifu Univ., Gifu, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 57  Issue： 1S  Page： 01AC03.1-01AC03.5  Publication year： Jan. 2018 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *magnetron sputtering ,  *plasma ,  *substrate temperature ,  *contactless measurement ,  *optical interferometry ,  emission spectrum ,  *pulse plasma

JST classification (2)： Thermometry,thermometer  (AD06010K) ,  Interferometry and interferometers  (BD07070G)

Terms in the title (7)： 高出力 ,  パルス ,  マグネトロンスパッタリング ,  コヒーレンス ,  干渉法 ,  基板温度 ,  非接触測定