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J-GLOBAL ID：201802290784345770   Reference number：18A0977065

Direct-Writing Technique Using Femtosecond Laser Reductive Sintering of CuO Nanoparticles

CuOナノ粒子を用いたフェムト秒レーザー還元直接描画法

Author (2)： MIZOSHIRI MIZUE (長岡技科大) ,  HATA SEIICHI (名古屋大 大学院)
Material： レーザー研究  (レーザー学会誌)
Volume： 46  Issue： 5  Page： 257-261  Publication year： May. 20, 2018 
JST Material Number： X0335A  ISSN： 0387-0200  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *nano particle ,  femtosecond laser ,  electron beam lithography ,  *cupric oxide ,  reduction (reaction) ,  substrate (plate) ,  electric apparatus and parts ,  laser pulse ,  laser irradiation ,  temperature sensor ,  reducing agent ,  metal oxide ,  micro structure ,  dispersing agent ,  *laser lithography ,  glass substrate ,  *copper oxide nanoparticle ,  selective laser sintering ,  thermometer ,  measuring instrument ,  sintering ,  heat treatment ,  treatment
Semi thesaurus term： laser sintering ,  *direct laser lithography ,  direct drawing

JST classification (3)： Applications of lasers  (BD04100V) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Atomic and molecular clusters  (BH09030O)

Reference (20)：

• 菅沼克昭,棚綱 宏:プリンテッド・エレクトロニクス技術,工業調査会.
• H. J. Gysling: Curr. Opinion Coll. & Interface Sci. 19 (2014) 155.
• Ph. Buffat and J.-P. Borel: Phys. Rev. A13 (1976) 2287.
• M. Aminuzzaman, A. Watanabe, and T. Miyashita: J. Nanoparticle Res. 12 (2010) 931.
• S. Jong, D. J. Lee, D. Lee, and J. H. Oh: Thin Sol. Films 546 (2013) 157.

Terms in the title (4)： CuOナノ粒子 ,  フェムト秒レーザー ,  還元 ,  直接描画