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J-GLOBAL ID：201803015852539022

母型の製造方法

Inventor： 高橋 哲 ,  鈴木 裕貴 ,  鈴木 邦和 ,  道畑 正岐 ,  高増 潔 ,  田中 大直 ,  西村 涼
Applicant, Patent owner： 国立大学法人 東京大学 ,  JXTGエネルギー株式会社
Agent (1)： 川北 喜十郎
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP2016074037
Publication number (International publication number)：WO2017030151
Application date： Aug. 17, 2016
Publication date： Feb. 23, 2017
Summary：

凹凸パターンを有する母型の製造方法は、高屈折率媒質130上に光硬化材料を供給して光硬化材料膜210を形成することと、前記高屈折率媒質130と前記光硬化材料膜210の界面230における所定領域に、前記高屈折率媒質130側から複数の光束330、370、390を、互いに異なる入射方向で且つ臨界角以上の入射角度で照射し、それにより発生した複光束干渉エバネッセント波により前記所定領域近傍の前記光硬化材料膜210を硬化させることとを含む。ナノインプリント法に用いるモールドの凹凸パターンを形成するための母型の新規な製造方法が提供される。

Claim (excerpt)：

高屈折率媒質上に光硬化材料を供給して光硬化材料膜を形成することと、 前記高屈折率媒質と前記光硬化材料膜の界面における所定領域に、前記高屈折率媒質側から複数の光束を、互いに異なる入射方向で且つ臨界角以上の入射角度で照射し、それにより発生した複光束干渉エバネッセント波により前記所定領域近傍の前記光硬化材料膜を硬化させることとを含む凹凸パターンを有する母型の製造方法。

IPC (3)：

B29C 33/38 ,  B29C 59/02 ,  H01L 21/027

FI (3)：

B29C33/38 ,  B29C59/02 Z ,  H01L21/30 502D

F-Term (21)：

4F202AG05 ,  4F202AR07 ,  4F202AR11 ,  4F202CA19 ,  4F202CB01 ,  4F202CB29 ,  4F202CD02 ,  4F202CD12 ,  4F202CD23 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AR20 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  5F146AA31 ,  5F146AA32