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J-GLOBAL ID：201902225240362134   Reference number：19A2114519

Characterization of amorphous aluminium oxide thin films synthesized by mist-CVD

ミストCVDにより合成した非晶質酸化アルミニウム薄膜の特性評価【JST・京大機械翻訳】

Author (5)： Yatabe Zenji (Kumamoto University, Japan) ,  Nishiyama Koshi (Kumamoto University, Japan) ,  Tsuda Takaaki (Kumamoto University, Japan) ,  Nishimura Kazuki (Kumamoto University, Japan) ,  Nakamura Yusui (Kumamoto Phoenics, Japan)
Material： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conf Proc)
Volume： 2019  Issue： CSW  Page： 1  Publication year： 2019 
JST Material Number： W2441A  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Abstract/Point： With its wide-bandgap (~7 eV),...

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Thesaurus term： *Aluminum Oxide ,  gate dielectric film ,  dielectric breakdown ,  *thin film ,  *characterization ,  refractive index ,  aqueous solution ,  crystallinity ,  *amorphous state ,  electric field ,  *mist (pollutant) ,  band gap ,  permittivity ,  sputtering ,  high quality

JST classification (2)： Graphic and image processing in general  (JE04010I) ,  Speach processing  (JE05000E)

Terms in the title (5)： ミストCVD ,  非晶質 ,  酸化アルミニウム ,  薄膜 ,  特性評価