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J-GLOBAL ID：201902227462404542   Reference number：19A2185319

Non-doped Titanium Oxide Films for Transparent Conductive Oxides Fabricated by Plasma-assisted Deposition

プラズマアシスト蒸着法による透明導電膜に向けたノンドープ・チタン酸化物薄膜の形成

Author (2)： ICHINOHE TAKAHISA (東京工業高等専門学校) ,  ONO HIDEKI (東京工業高等専門学校)
Material： 表面と真空  (Vacuum and Surface Science)
Volume： 62  Issue： 7  Page： 406-410(J-STAGE)  Publication year： 2019 
JST Material Number： G0194B  ISSN： 2433-5835  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *plasma CVD ,  *titanium oxide ,  *transmissivity ,  plasma ,  *electrical resistivity ,  vacancy ,  Temperature ,  amorphous state ,  *titanium dioxide ,  visible region ,  oxygen plasma ,  heat treatment temperature ,  oxygen vacancy
Semi thesaurus term： *plasma deposition ,  oxygen vacancy

Author keywords (8)： titanium oxide ,  transparent conducting films ,  plasma-assisted deposition ,  multi-capillary ,  titanium oxide ,  transparent conducting films ,  plasma-assisted deposition ,  multi-capillary

JST classification (2)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Materials of solid-state devices  (NC03020K)

Reference (23)：

• 1) K. Hashimoto, H. Irie and A. Fujishima : Jpn. J. Appl. Phys. 44, 8269 (2005).
• 2) K. Palanivelu, J.S. Im and Y.S. Lee : Carbon Sci. 8, 214 (2007).
• 3) K. Zakrzewska : Vacuum 74, 335 (2004).
• 4) X. Peng, Z. Wang, P. Huang, X. Chen, X. Fu and W. Dai : Sensors 16, 1249 (2016).
• 5) A. Ranjitha, N. Muthukumarasamy, M. Thambidurai, D. Velauthapillai, R. Balasundaraprabhu and S. Agilan : Sol. Energy 106, 159 (2014).

Terms in the title (7)： プラズマ ,  アシスト ,  蒸着 ,  透明導電膜 ,  ドープ ,  チタン ,  酸化物薄膜