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J-GLOBAL ID：201902236597250846   Reference number：19A2619200

質量分離有機金属分子イオンビーム堆積法のストイキオメトリ成膜への応用

Author (5)： YOSHIMURA SATORU (大阪大 大学院) ,  SUGIMOTO SATOSHI (大阪大 大学院) ,  TAKEUCHI TAKAE (奈良女大) ,  MURAI KENSUKE (産業技術総合研) ,  KIUCHI MASATO (産業技術総合研)
Material： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
Volume： 80th  Page： ROMBUNNO.20a-E306-11  Publication year： Sep. 04, 2019 
JST Material Number： Y0055B  ISSN： 2758-4704  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *MOMBE ,  *chemical composition ,  ion source ,  *silanes ,  *organosilicon compound ,  silicon carbide ,  nitrogen ,  containing alloy
Semi thesaurus term： *metal organic molecular beam epitaxy ,  *stoichiometric composition ,  *organic silane ,  SiC

JST classification (1)： Semiconductor thin films  (BK14040E)

Substance index (1)： Hexamethyldisilane

Terms in the title (7)： 有機金属 ,  分子イオン ,  ビーム ,  堆積 ,  ストイキオメトリ ,  成膜 ,  応用