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J-GLOBAL ID：201902239182715199   Reference number：19A1569504

高密度プラズマを用いた細穴内面の高機能成膜技術

Author (1)： KOSAKA HIROYUKI (岐阜大 工)
Material： 塑性加工シンポジウム
Volume： 333rd  Page： 43-49  Publication year： Jun. 20, 2019 
JST Material Number： F0656B  Document type： Proceedings
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *surface coating ,  plasma CVD ,  plasma ,  pore ,  *DLC film ,  aspect ratio ,  film thickness ,  plasma sheath ,  rate of sedimentation ,  dense plasma ,  *microwave plasma CVD ,  film thickness distribution ,  inner surface coating
Semi thesaurus term： inner surface coating ,  plasma sheath ,  MVP方式

JST classification (1)： Vapor plating  (WC08022K)

Terms in the title (3)： 高密度プラズマ ,  細穴 ,  成膜