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J-GLOBAL ID：201902244294289030   Reference number：19A1122365

化学気相成長法によるMPc(CN)₈-M錯体生成とナノロッド成長モデル

Author (3)： KOSHIBA YASUKO (神戸大 大学院工学研究科) ,  FUKUSHIMA TATSUYA (神戸大 大学院工学研究科) ,  ISHIDA KENJI (神戸大 大学院工学研究科)
Material： Molecular Electronics and Bioelectronics  (応用物理学会・有機分子・バイオエレクトロニクス分科会会誌)
Volume： 30  Issue： 2  Page： 108-111  Publication year： May. 20, 2019 
JST Material Number： L3415A  ISSN： 2423-8805  CODEN： MOEBFM  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *chemical vapor deposition ,  complex formation ,  *nanorod ,  *metallophthalocyanine ,  thin film growth ,  differential thermal analysis ,  thermogravimetric analysis ,  copper complex ,  iron complex ,  nickel complex ,  TG-DTA ,  aromatic nitrile
Semi thesaurus term： chemical vapor deposition

JST classification (1)： Thin films of organic compounds  (BK14070L)

Substance index (1)： 1,2,4,5-Tetracyanobenzene

Reference (13)：

• M. Wang, X. Wang, P. Moni, A. Liu, D. H. Kim, W. J. Jo, H. Sojoudi, and K. K. Gleason: Adv. Mater., 29 (2017) 1604606.
• M. E. Alf, A. Asatekin, M. C. Barr, S. H. Baxamusa, H. Chelawat, G. Ozaydin-Ince, C. D. Petruczok, R. Sreenivasan, W. E. Tenhaeff, N. J. Trujillo, S. Vaddiraju, J. Xu, and K. K. Gleason: Adv. Mater., 22 (2010) 1993.
• A. M. Coclite, R. M. Howden, D. C. Borrelli , C. D. Petruczok, R. Yang, J. L. Yagüe, A. Ugur, N. Chen, S. Lee , W. J. Jo, A. Liu, X. Wang , and K. K. Gleason: Adv. Mater., 25 (2013) 5392 (2013).
• G. Ozaydin-Ince, A. M. Coclite, and K. K. Gleason: Rep. Prog. Phys., 75 (2012) 016501.
• R. J. F.-Finney, P. D. Haller, and M. Gupta: Macromolecules, 45 (2012) 165.

Terms in the title (6)： 化学気相成長法 ,  MPC ,  Cn ,  錯体生成 ,  ナノロッド ,  成長モデル