Art

J-GLOBAL ID：201902257596470203   Reference number：19A1415480

Thermal stability of amorphous Si-rich W silicide films composed of W-atom-encapsulated Si clusters

W原子カプセル封じSiクラスタから成る非晶質SiリッチWシリサイド膜の熱安定性【JST・京大機械翻訳】

Author (3)： Okada Naoya (Japan Science and Technology Agency, PRESTO, 4-1-8 Honcho, Kawaguchi, Saitama 332-0012, Japan) ,  Uchida Noriyuki (Nanoelectronics Research Institute, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, 1-1-1 Higashi, Tsukuba, Ibaraki 305-8565, Japan) ,  Kanayama Toshihiko (National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8560, Japan)
Material： Journal of Applied Physics  (Journal of General Physics and its Application to Other Sciences and to Industry)
Volume： 121  Issue： 22  Page： 225308-225308-5  Publication year： 2017 
JST Material Number： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Abstract/Point： We demonstrate the excellent t...

Register(free) or Log In to access     To see more with JDream III (charged).   {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=19A1415480&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=C0266A") }}

Thesaurus term： optical absorption ,  crystallization ,  *thermal stability ,  *cluster ,  *amorphous silicon ,  Raman scattering ,  *encapsulation ,  *silicon ,  topology ,  vacuum deposition ,  *silicide ,  annealing (heat treatment) ,  amorphous structure ,  temperature range ,  cage
Semi thesaurus term： ケージ , 【Automatic Indexing@JST】

JST classification (2)： Lattice defects in semiconductors  (BK12040Q) ,  Solid-state plasmas  (BM02160W)

Terms in the title (7)： 原子 ,  カプセル封じ ,  Si ,  クラスタ ,  非晶質Si ,  シリサイド ,  熱安定性