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J-GLOBAL ID：201902269203802182   Reference number：19A2114672

Synthesis and characterization of AlTiO films by mist-CVD

ミストCVDによるAlTiO膜の合成とキャラクタリゼーション【JST・京大機械翻訳】

Author (5)： Yatabe Zenji (Kumamoto University, Japan) ,  Nishiyama Koshi (Kumamoto University, Japan) ,  Tsuda Takaaki (Kumamoto University, Japan) ,  Nishimura Kazuki (Kumamoto University, Japan) ,  Nakamura Yusui (Kumamoto Phoenics, Japan)
Material： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conf Proc)
Volume： 2019  Issue： CSW  Page： 1  Publication year： 2019 
JST Material Number： W2441A  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Abstract/Point： High-k dielectric aluminum tit...

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Thesaurus term： *Titanium ,  Fluorescence ,  X-ray ,  alloy ,  *characterization ,  refractive index ,  chemical vapor deposition ,  titanium oxide ,  Aluminum ,  precursor (substance) ,  X-ray photoelectron spectroscopy ,  X-Ray Diffraction ,  *mist (pollutant) ,  band gap ,  UV-Visible Spectroscopy

JST classification (1)： Graphic and image processing in general  (JE04010I)

Terms in the title (2)： ミストCVD ,  キャラクタリゼーション