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J-GLOBAL ID:201903003119878464

透過型電子顕微鏡グリッド及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): TRY国際特許業務法人
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2019010279
Publication number (International publication number):2019129154
Application date: Jan. 24, 2019
Publication date: Aug. 01, 2019
Summary:
【課題】ナノパーティクルに対する解像度の高い透過型電子顕微鏡グリッドを提供する。【解決手段】貫通する窓105を有するサブストレート104の表面に設置された、複数のスルーホール103を有する多孔質窒化ケイ素基板101、及び、多孔質窒化ケイ素基板101の表面に設置され、多孔質窒化ケイ素基板101の複数のスルーホール103を覆って懸架されるグラフェン層102を有し、グラフェン層102は連続な一体式構造であることを特徴とする。【選択図】図1
Claim (excerpt):
多孔質窒化ケイ素基板及び前記多孔質窒化ケイ素基板の表面に設置されたグラフェン層を含み、前記多孔質窒化ケイ素基板は、複数のスルーホールを有し、前記グラフェン層は、前記多孔質窒化ケイ素基板の複数のスルーホールを覆い、複数のスルーホールの位置に懸架されることを特徴とする透過型電子顕微鏡グリッド。
IPC (2):
H01J 37/20 ,  B82Y 35/00
FI (2):
H01J37/20 Z ,  B82Y35/00
F-Term (3):
5C001AA01 ,  5C001AA08 ,  5C001CC01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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