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J-GLOBAL ID:201903004742272425
細胞分散方法および細胞分散装置
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
,
,
Agent (5):
小野 新次郎
, 山本 修
, 宮前 徹
, 中西 基晴
, 中村 充利
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2018028999
Publication number (International publication number):2019140985
Application date: Feb. 21, 2018
Publication date: Aug. 29, 2019
Summary:
【課題】本発明の課題は、細胞凝集塊を単一細胞に分散させるための細胞分散装置および細胞分散方法を提供することである。【解決手段】本発明によって、細胞凝集塊を単一の細胞に分散することができる。本発明に係る装置は、細胞凝集塊を含む処理液を収納する円筒形状の槽と、前記槽の内側に、前記槽と同軸で回転可能に取り付けられる円筒部材と、を備えており、前記円筒部材を回転させることによって前記処理液を円筒部材の周りで回転させて細胞凝集塊を単一の細胞に分散することができる。【選択図】図3
Claim (excerpt):
細胞凝集塊を単一の細胞に分散する装置であって、
細胞凝集塊を含む処理液を収納する円筒形状の槽と、
前記槽の内側に、前記槽と同軸で回転可能に取り付けられる回転部材と、
を備え、前記回転部材を回転させることによって、前記槽内を周回する処理液を、テイラー渦流の状態で周回させて細胞凝集塊を単一の細胞に分散する、上記装置。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (8):
4B029AA02
, 4B029AA11
, 4B029AA15
, 4B029BB11
, 4B029CC01
, 4B029DA10
, 4B029DC07
, 4B029GB10
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
-
マイクロアレイ、その製造方法、及びその用途
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2013-050718
Applicant:三菱レイヨン株式会社, 独立行政法人産業技術総合研究所
-
細胞分散装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2010-168951
Applicant:シスメックス株式会社
-
微生物培養装置ならびにそれを利用した微生物分散培養方法および細胞外多糖類抑制方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2013-025720
Applicant:国立大学法人群馬大学
-
攪拌装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-083150
Applicant:冷化工業株式会社
-
被プロセス材および微小気泡を混相流としてプロセスを行う装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2010-107806
Applicant:丸井智敬
-
ガス供給方法及びガス供給装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2010-209499
Applicant:大陽日酸株式会社
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Cited by examiner (6)
-
マイクロアレイ、その製造方法、及びその用途
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2013-050718
Applicant:三菱レイヨン株式会社, 独立行政法人産業技術総合研究所
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細胞分散装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2010-168951
Applicant:シスメックス株式会社
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微生物培養装置ならびにそれを利用した微生物分散培養方法および細胞外多糖類抑制方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2013-025720
Applicant:国立大学法人群馬大学
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攪拌装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-083150
Applicant:冷化工業株式会社
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被プロセス材および微小気泡を混相流としてプロセスを行う装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2010-107806
Applicant:丸井智敬
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ガス供給方法及びガス供給装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2010-209499
Applicant:大陽日酸株式会社
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