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J-GLOBAL ID：201903014095386877
結像パターンシミュレーションシステム、結像パターンシミュレーション方法、結像パターンシミュレーションプログラム及びこのプログラムを記録した記録媒体
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (2)：
吉田 芳春
, 堀越 真弓
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2014217379
Publication number (International publication number)：2016086060
Patent number：6450561
Application date： Oct. 24, 2014
Publication date： May. 19, 2016
Claim (excerpt)：
【請求項1】 マスクの透過光が形成する結像パターンをシミュレーションする結像パターンシミュレーションシステムであって、前記マスクのマスクパターンを複数の小パターンに分割する分割手段と、該分割された各小パターンの透過光が形成する結像パターンを計算することによりライブラリを作成して保存するライブラリ作成保存手段と、該作成保存されているライブラリに基づいて、前記小パターンに対応する前記結像パターンを貼り合わせることにより、前記マスクの第1の結像パターンを作成する第1の結像パターン作成手段と、該作成した第1の結像パターンにおける接合面付近を境界要素に分割し、積分方程式を解いて綴合波を求める綴合波計算手段と、該求めた綴合波と前記第1の結像パターンとから前記マスクによる第2の結像パターンを作成する第2の結像パターン作成手段とを備えていることを特徴とする結像パターンシミュレーションシステム。
IPC (2)：
G03F 1/36 ( 201 2.01)
, G02B 19/00 ( 200 6.01)
