幾何学的エアリアルイメージシミュレーション

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大島陽一
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2001554268
Publication number (International publication number)：2003520999
Application date： Jan. 20, 2000
Publication date： Jul. 08, 2003
Summary：

【要約】本発明では、透過部を有するエアリアルイメージをシミュレートするために、マスクの透過部を基本要素に分割し(94)、各基本要素に対する光学系応答を得て(94)、次に全ての基本要素に対する応答を結合する(98)ことによってエアリアルイメージをシミュレートする。

Claim (excerpt)：

透過部を有するマスクが光源に露光される際に前記マスクにより生成されるエアリアルイメージをシミュレートする方法であって、 (a)前記マスクの透過部を基本要素に分割する過程と、 (b)前記各基本要素に対する応答関数を得る過程と、 (c)全ての前記基本要素に対する前記応答関数を合計してマスク応答関数を得る過程と、 (d)前記光源の全ての点に対して前記マスク応答関数を求めることにより前記エアリアルイメージをシミュレートする過程とを含むことを特徴とする方法。

IPC (2)：

G03F 1/08 , H01L 21/027

FI (2)：

G03F 1/08 A , H01L 21/30 502 P

F-Term (3)：

2H095BA01 , 2H095BB02 , 2H095BB36

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

光強度分布解析方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-271111 Applicant：日本電気株式会社
特開昭62-086460
半導体装置の製造方法およびハーフトーンマスク
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-152692 Applicant：株式会社日立製作所

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