Pat

J-GLOBAL ID：201903019101874384

周期模様を利用した三次元形状・変位・ひずみ測定装置、方法およびそのプログラム

Inventor： 王 慶華 ,  李 志遠 ,  津田 浩
Applicant, Patent owner： 国立研究開発法人産業技術総合研究所
Agent (3)： 西澤 和純 ,  大槻 真紀子 ,  大浪 一徳
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2018541896
Patent number：6583761
Application date： Jun. 01, 2017
Claim (excerpt)：

【請求項1】変位分布を測定する測定方法であって、 試料の表面に表れる格子を示す格子画像を所定の方向に第1のダウンサンプリングおよび第1の輝度補間を行って第1のモアレ縞を取得する第1のステップと、 前記第1のモアレ縞を前記方向にさらに第2のダウンサンプリングおよび第2の輝度の補間を行って第2のモアレ縞を生成する第2のステップと、 変位前後の前記第2のモアレ縞の位相分布の差から前記所定の方向または奥行き方向への変位分布を演算する第3のステップと、 を有する測定方法。

IPC (1)：

G01B 11/25 ( 200 6.01)

FI (1)：

G01B 11/25 H

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 計測装置及び橋梁検査方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2014-015269   Applicant：国立大学法人和歌山大学, ジェイアール西日本コンサルタンツ株式会社, 株式会社ヒカリ
• 格子画像の位相解析方法およびそれを用いた物体の変位測定方法ならびに物体の形状測定方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2008-113236   Applicant：国立大学法人和歌山大学
• 二次モアレ縞による顕微鏡走査ゆがみの影響を受けない変形測定方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2015-021532   Applicant：国立研究開発法人産業技術総合研究所

Article cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• サンプリングモアレ法による変位・ひずみ分布計測