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J-GLOBAL ID：201903019472009090

磁気研磨方法及び磁気研磨装置

Inventor：
鄒 艶華

About 鄒 艶華


Applicant, Patent owner：
国立大学法人宇都宮大学

About 国立大学法人宇都宮大学


Agent (1)： 吉村 俊一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2017152496
Publication number (International publication number)：2019030924
Application date： Aug. 07, 2017
Publication date： Feb. 28, 2019
Summary：
【課題】硬い材料からなる被研磨体を研磨する場合であっても、高効率で高精度の研磨加工を実現できる磁気研磨方法及び磁気研磨装置を提供する。【解決手段】磁気研磨装置30は、被研磨体1を装着する被研磨体装着部31と、被研磨体装着部31に装着された被研磨体1を挟んだ位置に配置されたN極磁石及びS極磁石と、各磁石を被研磨体1に向けて加圧する加圧装置と、各磁石と被研磨体1とを相対移動させる相対移動機構とを少なくとも備える磁気研磨装置30である。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
磁石に磁気吸着させた磁性研磨剤で被研磨体の表面を研磨する方法であって、 前記磁石は、前記被研磨体を挟んだ位置に配置されたN極磁石及びS極磁石であり、 前記各磁石を前記被研磨体に向けて加圧しながら前記各磁石と前記被研磨体とを相対移動させることを特徴とする磁気研磨方法。
IPC (2)：
B24B 37/00 ,  B24B 31/112
FI (4)：
B24B37/00 D ,  B24B31/112 ,  B24B37/00 E ,  B24B37/00 H
F-Term (12)：
3C158AA07 ,  3C158AA09 ,  3C158CA02 ,  3C158CA05 ,  3C158CB01 ,  3C158CB03 ,  3C158DA02 ,  3C158DA10 ,  3C158DA11 ,  3C158ED06 ,  3C158ED09 ,  3C158ED21
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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