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J-GLOBAL ID：201003066856503485

超精密磁気研磨方法及び超精密磁気研磨用の研磨スラリー

Inventor：
鄒 艶華

About 鄒 艶華

, 
進村 武男

About 進村 武男


Applicant, Patent owner：
国立大学法人宇都宮大学

About 国立大学法人宇都宮大学


Agent (1)： 吉村 俊一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008222379
Publication number (International publication number)：2010052123
Application date： Aug. 29, 2008
Publication date： Mar. 11, 2010
Summary：
【課題】管の内面を極めて精密に研磨することができ且つ洗浄も容易な超精密磁気研磨方法と、その方法で用いる研磨スラリーを提供する。【解決手段】被研磨管1と、被研磨管1内に導入された研磨スラリー2と、被研磨管1と研磨スラリー2とを相対運動させて研磨スラリー2を攪拌させる管内面磁気研磨装置3とを用い、管内面磁気研磨装置3を動作させて被研磨管1の内面を研磨スラリー2で研磨する。このとき、研磨スラリー2を、球状の磁性粒子と、その磁性粒子の平均粒径の1/4〜1/1000の範囲の平均粒径からなる研磨粒子と、その磁性粒子と研磨粒子をスラリー状にする媒体であって研磨粒子を研磨スラリー内に分散させるための添加剤を含まないスラリー媒体とで構成して上記課題を解決する。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
被研磨管と、該被研磨管内に導入された研磨スラリーと、該被研磨管と該研磨スラリーとを相対運動させて前記研磨スラリーを攪拌させる管内面磁気研磨装置とを用い、該管内面磁気研磨装置を動作させて前記被研磨管の内面を前記研磨スラリーで研磨する超精密磁気研磨方法であって、 前記研磨スラリーが、球状の磁性粒子と、該磁性粒子の平均粒径の1/4〜1/1000の範囲の平均粒径からなる研磨粒子と、該磁性粒子と該研磨粒子をスラリー状にするスラリー媒体であって該研磨粒子を研磨スラリー内に分散させるための添加剤を含まないスラリー媒体とを有することを特徴とする超精密磁気研磨方法。
IPC (3)：
B24B 37/00 ,  B24B 31/112 ,  C09K 3/14
FI (5)：
B24B37/00 D ,  B24B31/112 ,  B24B37/00 H ,  C09K3/14 550F ,  C09K3/14 550C
F-Term (7)：
3C058AA07 ,  3C058AA11 ,  3C058AA16 ,  3C058CB01 ,  3C058CB10 ,  3C058DA02 ,  3C058DA11
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (12)
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