Pat
J-GLOBAL ID:201903019524170162
外部共振型レーザモジュール、分析装置、外部共振型レーザモジュールの駆動方法、プログラム
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (4):
長谷川 芳樹
, 黒木 義樹
, 柴山 健一
, 木津 正晴
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2017155329
Publication number (International publication number):2019036577
Application date: Aug. 10, 2017
Publication date: Mar. 07, 2019
Summary:
【課題】小型化及び信頼性の向上を図りつつも、分光分析に用いられた場合に高精度な測定を実現することができる外部共振型レーザモジュールを提供する。【解決手段】外部共振型レーザモジュール2は、量子カスケードレーザ11と、量子カスケードレーザ11から出射された光を回折及び反射させる回折反射部28を有し、回折反射部28を揺動させることにより、光の一部を量子カスケードレーザ11に帰還させるMEMS回折格子12と、量子カスケードレーザ11の駆動を制御するレーザ制御部42と、を備える。レーザ制御部42は、回折反射部28が揺動する第1周波数f1よりも高い第2周波数f2のパルス光が量子カスケードレーザ11から出射され、且つ、回折反射部28がm回(m:1以上の整数)往復する度にパルス光の位相が変化するように、量子カスケードレーザ11をパルス駆動させる。【選択図】図5
Claim (excerpt):
量子カスケードレーザと、
前記量子カスケードレーザから出射された光を回折及び反射させる回折反射部を有し、前記回折反射部を揺動させることにより、前記光の一部を前記量子カスケードレーザに帰還させるMEMS回折格子と、
前記量子カスケードレーザの駆動を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、前記回折反射部が揺動する第1周波数よりも高い第2周波数のパルス光が前記量子カスケードレーザから出射され、且つ、前記回折反射部がm回(m:1以上の整数)往復する度に前記パルス光の位相が変化するように、前記量子カスケードレーザをパルス駆動させる、外部共振型レーザモジュール。
IPC (4):
H01S 5/14
, H01S 5/062
, G01J 3/18
, G01J 3/10
FI (4):
H01S5/14
, H01S5/062
, G01J3/18
, G01J3/10
F-Term (23):
2G020AA03
, 2G020BA02
, 2G020BA12
, 2G020CA02
, 2G020CB42
, 2G020CC02
, 2G020CC55
, 2G020CD06
, 2G020CD13
, 2G020CD23
, 2G020CD24
, 2G020CD26
, 5F173MA10
, 5F173MC01
, 5F173ME22
, 5F173MF02
, 5F173MF13
, 5F173MF40
, 5F173SA09
, 5F173SA22
, 5F173SA26
, 5F173SE02
, 5F173SG21
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
-
波長可変光源及びその駆動方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2016-015539
Applicant:浜松ホトニクス株式会社
-
MEMS波長掃引光源の波長校正装置及び方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-039055
Applicant:アンリツ株式会社
-
波長可変光源
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2016-015540
Applicant:浜松ホトニクス株式会社
-
光パルス発生器およびそれを用いた光計測器
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2009-058046
Applicant:アンリツ株式会社
-
高速波長掃引光源
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-287558
Applicant:アンリツ株式会社
-
特許第7903704号
-
分光測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-002991
Applicant:横河電機株式会社
-
特開平3-102229
Show all
Article cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
-
"EC tuning of broadband QCL active region designs around 3.3 μm and 8 μm"
Return to Previous Page