荷電粒子線治療装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：長谷川芳樹 , 黒木義樹 , 柳康樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2018065175
Publication number (International publication number)：2019170869
Application date： Mar. 29, 2018
Publication date： Oct. 10, 2019
Summary：

【課題】荷電粒子線の患部に対する照射精度を向上できる荷電粒子線治療装置を提供する。【解決手段】制御部7は、平面方向における腫瘍14の位置の変動に追従するように、平面方向における荷電粒子線Bの照射位置を調整する。これにより、荷電粒子線Bの照射位置は、平面方向における腫瘍14の位置の変動に良好に追従することができる。一方、深さ方向における荷電粒子線Bの照射位置の調整は、荷電粒子線Bのエネルギーを変更する必要があるため、時間を要する。従って、制御部7は、深さ方向における腫瘍14の位置が予め定めた範囲外になった場合は、荷電粒子線Bの照射を中断し、腫瘍14の位置が予め定めた範囲内に戻ったら荷電粒子線Bの照射を再開する。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

患者に向けて荷電粒子線を照射する照射部と、前記患者の患部の位置を検出する患部位置検出部と、前記患部位置検出部で検出した前記患部の位置に基づいて、前記照射部を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記荷電粒子線の照射軸と直交する平面方向における前記患部の位置の変動に追従するように、前記平面方向における前記荷電粒子線の照射位置を調整し、前記照射軸に沿った深さ方向における前記患部の位置が予め定めた範囲外になった場合は、前記荷電粒子線の照射を中断し、前記患部の位置が前記予め定めた範囲内に戻ったら前記荷電粒子線の照射を再開する、荷電粒子線治療装置。

IPC (1)：

A61N 5/10

FI (2)：

A61N5/10 M , A61N5/10 H

F-Term (11)：

4C082AA01 , 4C082AC04 , 4C082AE03 , 4C082AJ05 , 4C082AJ08 , 4C082AN04 , 4C082AN05 , 4C082AP07 , 4C082AP08 , 4C082AR02 , 4C082AR07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特許第5508553号
照射中に線量付与を制御する方法及び装置
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2012-540330 Applicant：ジーエスアイヘルムホルツツェントゥルムフュアシュヴェリオーネンフォルシュングゲーエムベーハー
放射線治療システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2014-245662 Applicant：株式会社日立製作所, 国立大学法人北海道大学

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