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J-GLOBAL ID:201903021077568050
複合基板及び複合基板の製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
特許業務法人酒井国際特許事務所
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2018056285
Publication number (International publication number):2019169850
Application date: Mar. 23, 2018
Publication date: Oct. 03, 2019
Summary:
【課題】強固な接合を確保できる複合基板及び複合基板の製造方法を提供する。【解決手段】複合基板20は、タンタル酸リチウム又はニオブ酸リチウムの単結晶で形成された第1基板21と、シリコンの単結晶で形成された第2基板22とが、アモルファス層23を介して接合された複合基板であって、アモルファス層23は、Ar、Ne、Kr及びXeのうち2種類以上を含有する。【選択図】図1
Claim (excerpt):
タンタル酸リチウム又はニオブ酸リチウムの単結晶で形成された第1基板と、シリコンの単結晶で形成された第2基板とが、アモルファス層を介して接合された複合基板であって、
前記アモルファス層は、Ar、Ne、Kr及びXeのうち2種類以上を含有する、複合基板。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (6):
5J097AA21
, 5J097BB11
, 5J097EE08
, 5J097FF01
, 5J097FF04
, 5J097HA03
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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弾性表面波素子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-136511
Applicant:富士通メディアデバイス株式会社, 富士通株式会社, 独立行政法人産業技術総合研究所
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常温接合装置、常温接合方法、平坦化装置および平坦化方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2013-030405
Applicant:三菱重工業株式会社, 独立行政法人産業技術総合研究所
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