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J-GLOBAL ID：202002245531991013   Reference number：20A0844736

Study on Real-time Chemical Observation during On-Surface Nanoscale Process-1st report: Development of Evanescent field Raman Spectroscopy System-

作用表面上におけるナノスケール現象の化学的実時間観測に関する研究-第1報:ラマン分光光度計の開発-

Author (3)： THANG Do Van (Kyushu Inst. of Technol.) ,  KHAJORNRUNGRUANG Panart (Kyushu Inst. of Technol.) ,  SUZUKI Keisuke (Kyushu Inst. of Technol.)
Material： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
Volume： 2020  Issue： 春季(CD-ROM)  Page： ROMBUNNO.G42  Publication year： Mar. 01, 2020 
JST Material Number： Y0914A  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *technology ,  fine patterning ,  scale ,  chemical mechanical polishing ,  in situ observation ,  *tracking ,  real time processing ,  physical machining ,  chemical machining ,  *Raman spectroscopy ,  near field(optics)
Semi thesaurus term： chemical mechanical polishing ,  evanescent field ,  nanoscale ,  *real-time tracking ,  *micromachining process technology

JST classification (2)： Optical instruments and techniques in general  (BD07010S) ,  Special machining  (QC04000Y)

Reference (10)：

• P. A. Temple: Total internal reflection microscopy. a surface inspection technique. Applied Optics. 20, pp.2656-2664 (1981).
• S. Takahashi, R. Nakajima, T. Miyoshi, Y. Takaya, and K. Takamasu: Development of an Evanescent Light Measurement System for Si Wafer Microdefect Detection. Key Engineering Materials, 295-296, pp.15-20 (2005).
• K. Kimura, K. Suzuki, and P. Khajornrungruang: Study on fine particle behavior in slurry flow between wafer and polishing pad as a material removal process in CMP. Proc. of ICPT, pp. 345-350 (2012).
• P. Khajornrungruang, P. Dean, and S. V. Babu, Proc. 29th ASPE Annu. Meet., pp.73 (2014).
• P. Khajornrungruang, S. Korkmaz, P. Angshuman, K. Suzuki, K. Kimura and S. V. Babu, Jpn. J. Appl. Phys. 55, 06JG02 (2016).

Terms in the title (9)： ナノスケール ,  現象 ,  化学 ,  実時間 ,  観測 ,  研究 ,  ラマン分光 ,  光度計 ,  開発