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J-GLOBAL ID：202002276654352028   Reference number：20A2347738

Relationship of phase shift mask design and size of three-dimension nanostructures

3次元ナノ構造の位相シフトマスク設計とサイズの関係【JST・京大機械翻訳】

Author (5)： Sihapitak Pongsakom (Nara Institute of Science and Technology,Division of Science and Technology,Nara,Japan,630-0192) ,  Ishikawa Yasuaki (College of Science and Engineering, Aoyama Gakuin University,Sagamihara,Kanagawa,Japan,252-5258) ,  Wang Xudongfang (Nara Institute of Science and Technology,Division of Science and Technology,Nara,Japan,630-0192) ,  Uenuma Mutsunori (Nara Institute of Science and Technology,Division of Science and Technology,Nara,Japan,630-0192) ,  Uraoka Yukiharu (Nara Institute of Science and Technology,Division of Science and Technology,Nara,Japan,630-0192)
Material： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conf Proc)
Volume： 2020  Issue： AM-FPD  Page： 80-82  Publication year： 2020 
JST Material Number： W2441A  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Abstract/Point： Flexible and high-efficiency t...

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Thesaurus term： simulation ,  optical diffraction ,  photoresist ,  light propagation ,  thermoelectric device ,  *three dimension ,  *nanostructure ,  near field (optics) ,  Periodicity ,  filling factor
Semi thesaurus term： 高効率 ,  *位相シフトマスク ,  ナノパターニング , 【Automatic Indexing@JST】

JST classification (1)： Graphic and image processing in general  (JE04010I)

Terms in the title (5)： 3次元 ,  ナノ構造 ,  位相シフトマスク ,  設計 ,  サイズ