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J-GLOBAL ID：202003005845927710

記憶障害の予防又は治療剤

Inventor： 島田 昌一 ,  近藤 誠 ,  小山 佳久 ,  臼井 紀好 ,  小林 光 ,  小林 悠輝
Applicant, Patent owner： 国立大学法人大阪大学
Agent (4)： 庄司 隆 ,  資延 由利子 ,  大杉 卓也 ,  平田 緑
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2019210724
Publication number (International publication number)：2020117480
Application date： Nov. 21, 2019
Publication date： Aug. 06, 2020
Summary：

【課題】記憶障害を予防又は治療できる医薬等を提供することを課題とする。【解決手段】シリコン微粒子を含有する記憶障害の予防又は治療剤、医薬組成物、医療機器、食品又は飲料を提供する。シリコン微粒子を、経口投与又は皮膚もしくは粘膜上に留置することにより、記憶障害を予防又は治療でき、その予防及び/又は治療効果は優れたものである。シリコン微粒子は水と接して水素を発生し得るシリコンを含有する微粒子であり、好ましくは、シリコン微細粒子及び/又は該シリコン微細粒子の凝集体である【選択図】図5

Claim (excerpt)：

シリコン微粒子を含有する記憶障害の予防又は治療剤。

IPC (5)：

A61K 33/00 ,  A61P 25/28 ,  A61P 39/06 ,  A23L 2/52 ,  A23L 33/16

FI (6)：

A61K33/00 ,  A61P25/28 ,  A61P39/06 ,  A23L2/00 F ,  A23L2/52 ,  A23L33/16

F-Term (17)：

4B018LB08 ,  4B018MD05 ,  4B018ME14 ,  4B018MF07 ,  4B018MF10 ,  4B117LC04 ,  4B117LK01 ,  4B117LL09 ,  4C086AA01 ,  4C086AA02 ,  4C086HA01 ,  4C086HA06 ,  4C086MA01 ,  4C086MA04 ,  4C086MA52 ,  4C086NA14 ,  4C086ZA15

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 水素水、その製造方法及び製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2015-237328   Applicant：株式会社KIT
• シリコン微細ナノ粒子及び/又はその凝集体及び生体用水素発生材及びその製造方法並びに水素水とその製造方法及び製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2016-162520   Applicant：株式会社KIT

Cited by examiner (2)

• 水素水、その製造方法及び製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2015-237328   Applicant：株式会社KIT
• シリコン微細ナノ粒子及び/又はその凝集体及び生体用水素発生材及びその製造方法並びに水素水とその製造方法及び製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2016-162520   Applicant：株式会社KIT

Article cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• J Nanopart Res, 2017, Vol. 19, 176, pp. 1-9
• Oxidative Medicine and Cellular Longevity, 2012, Vol. 2012, Article ID 353152, pp. 1-11

Cited by examiner (2)

• J Nanopart Res, 2017, Vol. 19, 176, pp. 1-9
• Oxidative Medicine and Cellular Longevity, 2012, Vol. 2012, Article ID 353152, pp. 1-11