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J-GLOBAL ID：202003008825496100
表面加工方法、構造体の製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
特許業務法人かいせい特許事務所
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2016156702
Publication number (International publication number)：2018023990
Patent number：6757953
Application date： Aug. 09, 2016
Publication date： Feb. 15, 2018
Claim (excerpt)：
【請求項1】 加工対象物(200)の表面(210)に微細な構造体(260)を形成する表面加工方法であって、
前記加工対象物(200)に対してイオン注入を行うことにより、前記加工対象物(200)にイオン注入層(230)を形成するイオン注入工程と、
前記イオン注入工程の後、前記加工対象物(200)にレーザ光を照射して、前記加工対象物(200)のうち前記レーザ光の照射部分を局所的に加熱して前記加工対象物(200)にブリスタリング(250)を発生させることにより、前記加工対象物(200)の前記表面(210)に前記構造体(260)として、前記表面(210)の一部が隆起した隆起構造を形成するレーザ光照射工程と、
を含み、
前記レーザ光照射工程では、前記構造体(260)として、前記加工対象物(200)の前記表面(210)に垂直な厚み方向における厚みが7μm以下のミクロンオーダーの前記隆起構造を形成することを特徴とする表面加工方法。
IPC (2)：
B23K 26/352 ( 201 4.01)
, B23K 26/00 ( 201 4.01)
B23K 26/352
, B23K 26/00 N
