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J-GLOBAL ID:202003009065881528

修飾グラフェン、修飾グラフェンの製造方法、修飾グラフェン樹脂複合体、修飾グラフェンシートおよび修飾グラフェン分散体

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 桂田 健志
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2020011259
Publication number (International publication number):2020138898
Application date: Jan. 27, 2020
Publication date: Sep. 03, 2020
Summary:
【課題】欠陥濃度が低い、修飾グラフェン、樹脂複合体、及び分散体を提供する。【解決手段】下記式(I)で示される構造を有し、ラマン分光スペクトルにおけるGバンドの強度gとDバンドの強度dの比率(g/d)が、1以上である修飾グラフェン:Gr1=N-Ar1-X1-(Y1)n1(I)(式(I)中、Gr1は単層グラフェンまたは多層グラフェンであり、Ar1は炭素数6〜18のアリーレン基であり、X1は、単結合、炭素数1〜20の直鎖状、分岐鎖状もしくは環状のアルキレン基等であり、Y1は、X1が単結合である場合はアリーレン基中の少なくとも1つの炭素原子に結合する原子もしくは基、又はX1が単結合でない場合はX1中の炭素原子に結合する原子または基等であり、n1は1以上の整数を表し、n1が2以上の場合Y1は互いに同じ基であっても、異なる基であっても良い。)【選択図】なし
Claim (excerpt):
修飾グラフェンであって、 下記式(I)で示される構造を有し、 ラマン分光スペクトルにおけるGバンドの強度gとDバンドの強度dの比率(g/d)が、1以上であることを特徴とする修飾グラフェン: Gr1=N-Ar1-X1-(Y1)n1 (I) (前記式(I)中、 Gr1は単層グラフェンまたは多層グラフェンであり、 Ar1は炭素数6〜18のアリーレン基であり、 X1は、 単結合、 炭素数1〜20の直鎖状、分岐鎖状もしくは環状のアルキレン基、または、 炭素数1〜10の直鎖状、分岐鎖状もしくは環状のアルキレン基中の少なくとも1つの炭素原子を、-O-、-NH-、
IPC (4):
C01B 32/194 ,  C08L 101/00 ,  C08K 9/04 ,  C08K 3/04
FI (4):
C01B32/194 ,  C08L101/00 ,  C08K9/04 ,  C08K3/04
F-Term (26):
4G146AA01 ,  4G146AB07 ,  4G146AC16B ,  4G146AC19B ,  4G146AC26B ,  4G146CB19 ,  4G146CB22 ,  4G146CB35 ,  4J002AA001 ,  4J002AB021 ,  4J002AC011 ,  4J002BB031 ,  4J002BC031 ,  4J002BD031 ,  4J002BF021 ,  4J002BG021 ,  4J002BG101 ,  4J002CC031 ,  4J002CD001 ,  4J002CL001 ,  4J002CP031 ,  4J002DA016 ,  4J002FB086 ,  4J002FD016 ,  4J002GM00 ,  4J002GQ00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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