成膜装置及びそれを用いた成膜方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大谷嘉一
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2016011537
Publication number (International publication number)：2017133048
Patent number：6709005
Application date： Jan. 25, 2016
Publication date： Aug. 03, 2017
Claim (excerpt)：

【請求項1】大気圧非熱平衡のプラズマ流発生装置と、前記プラズマ流発生装置にて発生したプラズマジェット流の流路途中に固体の成膜原材料との接触供給部とを備え、前記プラズマジェット流に前記固体の成膜原材料を接触させることで、前記固体の成膜原材料がガス化し混合したプラズマジェット流との混合プラズマ流が被成膜基材上に到達し、成膜されることを特徴とする成膜方法。

IPC (3)：

C23C 16/513 ( 200 6.01) , H05H 1/26 ( 200 6.01) , H01L 21/205 ( 200 6.01)

FI (3)：

C23C 16/513 , H05H 1/26 , H01L 21/205

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

炭素膜、高分子製品、炭素膜被覆材の製造方法、成膜方法、及び、成膜装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2012-095810 Applicant：株式会社ミツバ, 国立大学法人群馬大学
プラズマ・ジェットによって物理的かつ化学的に活性の環境を形成する方法および関連するプラズマ・ジェット
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2000-549075 Applicant：マサリコヴァユニヴェルツィタ
基板処理装置及び基板処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2013-266834 Applicant：東京エレクトロン株式会社

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