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J-GLOBAL ID：202003016971428756

計測対象物の面外変位分布や3次元形状を計測する方法とその装置

Inventor： 藤垣 元治 ,  後藤 優太 ,  川原 滉平
Applicant, Patent owner： 国立大学法人福井大学
Agent (1)： あいわ特許業務法人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2019009215
Publication number (International publication number)：2020118533
Application date： Jan. 23, 2019
Publication date： Aug. 06, 2020
Summary：

【課題】比較的遠方に位置する測定対象物の面外方向の変位の分布を、投光側と受光側とを略同軸に配置した状態で計測する方法およびその方法を用いる装置を提供する。【解決手段】物体の表面に干渉縞を投影し、投影された干渉縞の反射光を撮像手段で撮像する計測方法において、前記干渉縞は、3方向から照射される可干渉の光波による干渉の原理に基づいて、3方向から照射される光の照射方向に干渉縞が現れる領域と現れない領域からなる3光束干渉縞が形成され、前記3光束干渉縞により前記計測対象物の変位または3次元形状を計測する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

物体の表面に干渉縞を投影し、投影された干渉縞の反射光を撮像手段で撮像する計測方法において、 前記干渉縞は、3方向から照射される可干渉の光波による干渉の原理に基づいて、3方向から照射される光の照射方向に干渉縞が現れる領域と現れない領域からなる3光束干渉縞が形成され、 前記3光束干渉縞により前記計測対象物の変位または3次元形状を計測する、計測方法。

IPC (2)：

G01B 11/00 ,  G01B 11/25

FI (2)：

G01B11/00 G ,  G01B11/25 G

F-Term (16)：

2F065AA01 ,  2F065AA51 ,  2F065AA53 ,  2F065CC16 ,  2F065DD02 ,  2F065DD03 ,  2F065DD06 ,  2F065FF04 ,  2F065FF44 ,  2F065FF51 ,  2F065HH07 ,  2F065HH14 ,  2F065JJ19 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL42 ,  2F065QQ25

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 3次元変位ひずみ計測方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-066766   Applicant：国立大学法人和歌山大学, 関西ティー・エル・オー株式会社
• 蛍光顕微鏡検査法における照明位相制御のためのシステムおよび方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2013-556581   Applicant：アプライドプレシジョンインコーポレイテッド