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J-GLOBAL ID:202101003481456196   Update date: Oct. 09, 2024

Toh Daisetsu

トウ ダイセツ | Toh Daisetsu
Affiliation and department:
Research field  (1): Manufacturing and production engineering
Research theme for competitive and other funds  (5):
  • 2023 - 2025 金属配線付き基板を段差導入なく平坦にする純水を用いた持続可能な精密研磨技術の開発
  • 2021 - 2025 Development of X-ray nanobeam optics by precision wavefront control
  • 2024 - 2025 公益財団法人 池谷科学技術振興財団
  • 2022 - 2024 一般財団法人 先端加工機械技術技術振興会
  • 2018 - 2021 ニッケル触媒を利用した純水ベースの超精密表面研磨手法の開発
Papers (33):
  • Yasuhisa Sano, Yuma Nakanishi, Masaaki Oshima, Shunto Iden, Jumpei Yamada, Daisetsu Toh, Kazuto Yamauchi. Dicing Process for 4H-SiC Wafers by Plasma Etching Using High-Pressure SF<sub>6</sub> Plasma with Metal Masks. Materials Science Forum. 2024. 1124. 51-55
  • D. Toh, K. Takeda, K. Kayao, Y. Ohkubo, K. Yamauchi, Y. Sano. Ultra-precision smooth surface on polymer material prepared by catalyst-referred etching. International Journal of Automation Technology. 2024. 18. 2. 240-247
  • Shotaro Matsumura, Iori Ogasahara, Masafumi Miyake, Taito Osaka, Daisetsu Toh, Jumpei Yamada, Makina YABASHI, Kazuto Yamauchi, Yasuhisa Sano. High-pressure plasma etching up to 9 atm toward uniform processing inside narrow grooves of high-precision X-ray crystal optics. Applied Physics Express. 2023
  • Daisetsu Toh, Kiyoto Kayao, Kazuto Yamauchi, Yasuhisa Sano. Fabrication of YAG ceramics surface without damage and grain boundary steps using catalyzed chemical wet etching. CIRP Journal of Manufacturing Science and Technology. 2023. 47. 1-6
  • Daisetsu Toh, Kiyoto Kayao, Pho Van Bui, Kouji Inagaki, Yoshitada Morikawa, Kazuto Yamauchi, Yasuhisa Sano. Catalyst enhancement approach for improving the removal rate and stability of silica glass polishing via catalyzed chemical etching in pure water. Precision Engineering. 2023. 84. 21-27
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MISC (15):
  • 櫛川新太, 西岡柚香, 藤大雪, 山内和人, 佐野泰久. 大気圧プラズマによる表面処理を利用した常温接合技術の開発. 精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集. 2022. 2022
  • 中上元太, 崔泰樹, 藤大雪, 山内和人, 佐野泰久. 水素ガスを用いた大気圧プラズマによる窒化ガリウム基板の高能率エッチング. 精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集. 2022. 2022
  • 萱尾澄人, 藤大雪, 山田純平, 山内和人, 佐野泰久. 紫外光照射を援用した触媒表面基準エッチング法を用いた窒化ガリウム基板の高能率平滑化. 精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集. 2022. 2022
  • Toh Daisetsu, Bui Van Pho, Matsuyama Satoshi, Sano Yasuhisa, Yamauchi Kazuto. Fabrication of atomically smooth polycrystalline surface without grain boundary steps by using catalyst referred etching method. Proceedings of JSPE Semestrial Meeting. 2021. 2021A. 115-116
  • 竹田広大, 藤大雪, 佐野泰久, 山内和人. 触媒表面基準エッチング法を用いた高分子材料表面の高精度平坦化手法-ポリカーボネートの加工特性評価-. 精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集. 2021. 2021
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Patents (3):
Books (2):
  • 金属薄膜と超純水を利用した超精密研磨手法の開発
    一般社団法人 生産技術振興協会 生産と技術 Vol.75, No.2 (2023) pp. 106-109 2023
  • 光電気化学反応を利用した環境調和性に優れた高能率GaN表面研磨技術
    日本工業出版 光アライアンス 2024年5月号
Lectures and oral presentations  (1):
  • Fabrication of damage-free atomically smooth SiC surface using water and Ni catalyst
    (The International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2019 2019)
Education (1):
  • 2018 - 2021 大阪大学大学院 工学研究科 精密科学・応用物理学専攻
Work history (1):
  • 2021/04 - 現在 大阪大学大学院工学研究科 物理学系専攻 助教
Committee career (1):
  • 2023/03 - 現在 公益社団法人 精密工学会 若手先導的会員(精密学会アフィリエイト)
Awards (4):
  • 2023/11 - 精密工学会 アドバンスト・ベストプレゼンテーション賞(2023年度精密工学会秋季大会学術講演会)
  • 2022/09 - 精密工学会 精密工学会技術奨励賞 触媒表面基準エッチング法を用いた粒界段差フリーの超平滑多結晶材料表面の創成
  • 2021/09 - 精密工学会 アドバンスト・ベストプレゼンテーション賞(2021年度精密工学会秋季大会学術講演会)
  • 2015/09 - 2015年度精密工学会秋季大会学術講演会 ベストプレゼンテーション賞
※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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