放射性組成物の製造方法

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Applicant, Patent owner： ,
Agent (8)：奥山尚一 , 松島鉄男 , 中村綾子 , 森本聡二 , 田中祐 , 徳本浩一 , 水島亜希子 , 有原幸一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2020087511
Publication number (International publication number)：2021181932
Application date： May. 19, 2020
Publication date： Nov. 25, 2021
Summary：

【課題】放射性同位体を含む反応混合液、特に、放射性組成物の製造方法において、放射性物質による装置の汚染を最小限とし、液滴の混合を高速化かつ高精度化する。【解決手段】放射性組成物の製造方法は、液体操作装置1の絶縁膜4の表面4b上にて、複数のディンプル5のうち少なくとも2つに、放射性核種を含む少なくとも1つの第1の液滴L1と、ラベリング物質を含む少なくとも1つの第2の液滴L2とをそれぞれ配置する工程と、複数の電極3に印加する電圧を変化させることによって生じる静電気力の変化を用いて、少なくとも1つの第1の液滴L1と、少なくとも1つの第2の液滴L2とを複数のディンプル5のうちいずれか1つにて混合するように相対的に移動させることによって、混合液Mを得る工程とを含む。【選択図】図4

Claim (excerpt)：

基板と、前記基板の表面上に配置される複数の電極と、前記複数の電極を覆うように前記基板の表面上に配置される絶縁膜とを備え、前記絶縁膜が、前記基板の表面を向く裏面と、前記絶縁膜の裏面に対して前記絶縁膜の厚さ方向の反対側に位置する表面とを有し、前記絶縁膜が、前記複数の電極にそれぞれ対応して位置し、かつ前記絶縁膜の表面から前記絶縁膜の裏面に向かう凹方向に凹むように曲がる複数のディンプルを有し、各電極が、それに対応して位置する前記ディンプルと一緒になって前記凹方向に凹むように曲がるディンプル対応部を有する、液体操作装置を用いた放射性組成物の製造方法であって、前記絶縁膜の表面上にて、前記複数のディンプルのうち少なくとも2つに、放射性核種を含む少なくとも1つの第1の液滴と、ラベリング物質を含む少なくとも1つの第2の液滴とをそれぞれ配置する工程と、前記複数の電極に印加する電圧を変化させることによって生じる静電気力の変化を用いて、前記少なくとも1つの第1の液滴と、前記少なくとも1つの第2の液滴とを前記複数のディンプルのうちいずれか1つにて混合するように相対的に移動させることによって、混合液を得る工程とを含む放射性組成物の製造方法。

IPC (3)：

G21G 4/08 , G21F 9/00 , G21H 5/02

FI (4)：

G21G4/08 G , G21F9/00 A , G21G4/08 T , G21H5/02 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

自己遮蔽ベンチトップ型ケミストリシステム
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2017-516644 Applicant：ザリージェンツオブザユニバーシティオブカリフォルニア, ソフィーバイオサイエンシーズ,インコーポレイテッド.
微量化学反応方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-188708 Applicant：株式会社島津製作所
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Gazette classification：公表公報 Application number：特願2007-519852 Applicant：コミツサリアタレネルジーアトミーク, ソントルナショナルドラルシェルシュションティフィーク

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