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J-GLOBAL ID：202103005302797539

ケイ酸塩系基材と希土類化合物との複合体、発光ナノ粒子、細胞の検出方法、動物の治療方法、医療装置、及びケイ酸塩系基材と希土類化合物との複合体の製造方法

Inventor： 茶谷 直 ,  犬井 正彦 ,  多賀谷 基博 ,  片岡 卓也 ,  本塚 智
Applicant, Patent owner： 株式会社オハラ ,  国立大学法人長岡技術科学大学 ,  独立行政法人国立高等専門学校機構
Agent (3)： 正林 真之 ,  林 一好 ,  新山 雄一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2020046605
Publication number (International publication number)：2021147255
Application date： Mar. 17, 2020
Publication date： Sep. 27, 2021
Summary：

【課題】発光強度が高く発光粒子として使用できるケイ酸塩系基材と希土類化合物との複合体、これを用いた発光ナノ粒子、細胞の検出方法、動物の治療方法、医療装置、及びケイ酸塩系基材と希土類化合物との複合体の製造方法を提供すること。【解決手段】ケイ素元素(Si)及び酸素元素(O)を含有するケイ酸塩系基材と、希土類化合物とを含み、前記希土類化合物は、希土類元素の塩化物及び希土類元素のフッ化物から選択される少なくとも一種を含み、前記ケイ酸塩系基材が、固体29Si-NMRスペクトルにおける、Si(OSi)4に由来するピーク面積をQ4とし、HO-Si(OSi)3に由来するピーク面積をQ3としたときの、Q4/Q3が1.6〜3.9である、ケイ酸塩系基材と希土類化合物との複合体。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

ケイ素元素(Si)及び酸素元素(O)を含有するケイ酸塩系基材と、希土類化合物とを含み、 前記希土類化合物は、希土類元素の塩化物及び希土類元素のフッ化物から選択される少なくとも一種を含み、 前記ケイ酸塩系基材が、固体29Si-NMRスペクトルにおける、Si(OSi)4に由来するピーク面積をQ4とし、HO-Si(OSi)3に由来するピーク面積をQ3としたときの、Q4/Q3が1.6〜3.9である、ケイ酸塩系基材と希土類化合物との複合体。

IPC (11)：

C01B 33/18 ,  C09K 11/85 ,  C01B 33/12 ,  B82Y 20/00 ,  B82Y 40/00 ,  G01N 21/64 ,  G01N 23/205 ,  G01N 23/207 ,  G01N 33/48 ,  G01N 33/58 ,  A61N 5/06

FI (12)：

C01B33/18 Z ,  C09K11/85 ,  C01B33/12 A ,  B82Y20/00 ,  B82Y40/00 ,  G01N21/64 F ,  G01N23/2055 320 ,  G01N23/207 ,  G01N33/48 M ,  G01N33/48 P ,  G01N33/58 Z ,  A61N5/06 Z

F-Term (63)：

2G001AA01 ,  2G001BA22 ,  2G001CA01 ,  2G001FA18 ,  2G001GA13 ,  2G001HA01 ,  2G001KA08 ,  2G001NA03 ,  2G001NA07 ,  2G001NA15 ,  2G001NA18 ,  2G043AA03 ,  2G043BA16 ,  2G043CA09 ,  2G043DA02 ,  2G043EA01 ,  2G043FA01 ,  2G043FA02 ,  2G043KA02 ,  2G043LA03 ,  2G045AA24 ,  2G045AA26 ,  2G045BA13 ,  2G045BA14 ,  2G045BB20 ,  2G045BB25 ,  2G045CB01 ,  2G045CB02 ,  2G045CB26 ,  2G045DA36 ,  2G045FA16 ,  2G045FA29 ,  2G045FB03 ,  2G045FB12 ,  2G045FB13 ,  2G045FB15 ,  2G045GB01 ,  2G045GC15 ,  2G045JA01 ,  4C082PA02 ,  4C082PJ01 ,  4G072AA25 ,  4G072AA35 ,  4G072AA38 ,  4G072BB05 ,  4G072BB13 ,  4G072CC16 ,  4G072DD05 ,  4G072GG02 ,  4G072GG03 ,  4G072HH08 ,  4G072JJ28 ,  4G072MM01 ,  4G072MM02 ,  4G072MM36 ,  4G072QQ06 ,  4G072RR07 ,  4G072RR13 ,  4G072TT01 ,  4G072UU30 ,  4H001XA09 ,  4H001XA17 ,  4H001XA90

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 合成シリカガラスの製造
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2012-555382   Applicant：ヘレウスクオーツユーケーリミティド