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J-GLOBAL ID:202103006086919337

高レベル放射性物質処理システム及び高レベル放射性物質処理方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 特許業務法人酒井国際特許事務所
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2020060280
Publication number (International publication number):2021156851
Application date: Mar. 30, 2020
Publication date: Oct. 07, 2021
Summary:
【課題】プロセス負荷を低減し、かつ、高い作業性で、マイナーアクチノイドを抽出することができる。【解決手段】マイナーアクチノイドを含有する高レベル放射性物質を処理する高レベル放射性物質処理装置であって、高レベル放射性物質を含有する液体を供給する液体供給部と、有機相の抽出剤を供給する抽出剤供給部と、希釈液を供給する希釈液供給部と、液体と、抽出剤と、希釈液とを混合し、高レベル放射性物質に含まれるマイナーアクチノイド及びランタノイドの少なくとも一方を抽出剤に抽出するMA抽出液生成部と、を含み、希釈液は、沸点が100°C以下である。【選択図】図1
Claim (excerpt):
マイナーアクチノイドを含有する高レベル放射性物質を処理する高レベル放射性物質処理装置であって、 前記高レベル放射性物質を含有する液体を供給する液体供給部と、 有機相の抽出剤を供給する抽出剤供給部と、 希釈液を供給する希釈液供給部と、 前記液体と、前記抽出剤と、前記希釈液とを混合し、前記高レベル放射性物質に含まれる前記マイナーアクチノイド及びランタノイドの少なくとも一方を前記抽出剤に抽出するMA抽出液生成部と、を含み、 前記希釈液は、沸点が100°C以下である高レベル放射性物質処理システム。
IPC (2):
G21F 9/06 ,  G21F 9/08
FI (3):
G21F9/06 581H ,  G21F9/08 511A ,  G21F9/08 511F
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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