膜分離活性汚泥処理装置、膜分離活性汚泥処理方法及び原水供給装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：特許業務法人谷川国際特許事務所
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2016254055
Publication number (International publication number)：2018103129
Patent number：6941439
Application date： Dec. 27, 2016
Publication date： Jul. 05, 2018
Claim (excerpt)：

【請求項1】好気性処理および無酸素処理を行う単一の反応槽と、その反応槽の内部に配置された浸漬膜分離ユニットと、曝気手段とを有する膜分離活性汚泥処理装置であって、反応槽は、底部が反応槽の底面から離間して設けられた仕切板によって複数個の区画に分割され、その複数個の区画のうちの少なくとも一つの区画を、浸漬膜分離ユニットおよび曝気手段が配置された好気区画とし、その他の区画内を、好気状態から無酸素状態に、また、無酸素状態から好気状態に切り換えるための区画とし、かつ、反応槽内の液位が仕切板上端よりも高い状態と低い状態とに切り換えるための液位制御手段が設けられている膜分離活性汚泥処理装置において、前記反応槽内の液位が前記仕切板の上端よりも低く、前記その他の区画が無酸素状態であるときに、反応槽内の液位が仕切板の上端を越えない量の原水を反応槽内の前記その他の区画に供給する原水供給手段を設け、且つ、前記液位制御手段がサイホン管を用いた手段であることを特徴とする膜分離活性汚泥処理装置。

IPC (3)：

C02F 3/12 ( 200 6.01) , C02F 3/34 ( 200 6.01) , C02F 1/44 ( 200 6.01)

FI (8)：

C02F 3/12 S , C02F 3/12 H , C02F 3/12 B , C02F 3/12 A , C02F 3/34 101 A , C02F 3/34 101 B , C02F 3/34 101 C , C02F 1/44 F

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

膜分離活性汚泥処理装置及び膜分離活性汚泥処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-054573 Applicant：渡辺義公, 小澤源三, 笹川学, 東レ株式会社
特開昭63-059396
濾過一体型水槽および濾過方式
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-149673 Applicant：丸山進

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