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J-GLOBAL ID:202103018971509543

ナノ炭素材料膜の製造方法と装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 江藤 保子
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2018549104
Patent number:6870860
Application date: Nov. 06, 2017
Claim (excerpt):
【請求項1】分散剤により分散されたナノ炭素材料を含有する分散液を用いてナノ炭素材料膜を製造する方法であって、 波長200〜400nmの紫外光照射により前記ナノ炭素材料の表面から脱離する光応答性分散剤を用い、該光応答性分散剤により分散されたナノ炭素材料を含有する分散液を基材表面に接触させた状態で、該分散液に波長200〜400nmの紫外光を照射して、前記分散液と接する基材表面上に凝集したナノ炭素材料の堆積膜を形成する工程、及び 洗浄処理により、光応答後の前記光応答性分散剤を含有する分散液を前記基材上から洗い流す工程、 を含むことを特徴とするナノ炭素材料膜の製造方法。
IPC (8):
C01B 32/15 ( 201 7.01) ,  C01B 32/159 ( 201 7.01) ,  C01B 32/174 ( 201 7.01) ,  C01B 32/194 ( 201 7.01) ,  C09D 17/00 ( 200 6.01) ,  C09C 1/44 ( 200 6.01) ,  C09C 1/48 ( 200 6.01) ,  B82Y 40/00 ( 201 1.01)
FI (8):
C01B 32/15 ,  C01B 32/159 ,  C01B 32/174 ,  C01B 32/194 ,  C09D 17/00 ,  C09C 1/44 ,  C09C 1/48 ,  B82Y 40/00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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