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J-GLOBAL ID：202103020336604186

原水供給装置及び原水供給方法

Inventor： 木村 克輝 ,  石田 進 ,  張 亮 ,  円谷 輝美 ,  三好 太郎
Applicant, Patent owner： 国立大学法人北海道大学 ,  前澤工業株式会社
Agent (1)： 特許業務法人谷川国際特許事務所
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2016254064
Publication number (International publication number)：2018103130
Patent number：6941440
Application date： Dec. 27, 2016
Publication date： Jul. 05, 2018
Claim (excerpt)：

【請求項1】 生物処理を行う反応槽に原水を供給するための原水供給装置であって、貯水槽(但し、間欠濾過槽を除く)と、貯水槽の内部から貯水槽槽壁の上部を経て貯水槽の外部に延在するよう設けられたサイホン管とを備える原水供給装置。

IPC (3)：

C02F 3/12 ( 200 6.01) ,  C02F 1/44 ( 200 6.01) ,  C02F 3/34 ( 200 6.01)

FI (6)：

C02F 3/12 A ,  C02F 3/12 B ,  C02F 1/44 K ,  C02F 3/12 S ,  C02F 3/34 101 B ,  C02F 3/34 101 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

• 濾過一体型水槽および濾過方式
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-149673   Applicant：丸山進
• 浄化槽
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-068324   Applicant：東陶機器株式会社
• 特開平4-215892
  
• 膜分離活性汚泥処理装置及び膜分離活性汚泥処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-054573   Applicant：渡辺義公, 小澤源三, 笹川学, 東レ株式会社
• 特開昭63-059396
  
• 特開昭60-248294
  
• 水処理方法および装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-097291   Applicant：株式会社クボタ