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J-GLOBAL ID：202203000459757234

蔓状炭素膜

Inventor： 羽場 方紀 ,  鈴木 良一 ,  加藤 英俊
Applicant, Patent owner： 羽場 方紀 ,  趙 陽九
Agent (1)： 羽場 方紀
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2020192059
Publication number (International publication number)：2022073816
Application date： Nov. 02, 2020
Publication date： May. 17, 2022
Summary：

【課題】 低動作開始電圧を有し安定したIV特性をもつエミッタ用炭素膜を得ること。 【解決手段】 本エミッタ用炭素膜は蔓状で不定形に成長した炭素膜構造をもつ。この蔓の表面には棘が法線状に多数存在する。 また棘は非常に小面積の数層からなる独立したグラフェンシート群からなっている。 グラフェンシートはナノメートルの平面からなり、個々のシートには連続性は認められない。 個々のグラフェンシートは蔓に法線状に立ち混在している。 電子放射は法線状に立ったナノシート群の尖端から放射される。 【選択図】図2

Claim (excerpt)：

炭素膜のマクロ形状が蔓状を形成し、蔓状の表面に棘を多数もつことを特徴とするエミッタ用炭素膜。

IPC (1)：

H01J 9/02

FI (1)：

H01J9/02 B

F-Term (5)：

5C227AA06 ,  5C227AB09 ,  5C227AB15 ,  5C227AC08 ,  5C227AD12

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 炭素膜および炭素膜構造
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-341254   Applicant：ダイヤライトジャパン株式会社, 平木昭夫, 羽場方紀
• 炭素構造体、電界放射チップおよび電界放射チップの製造方法ならびにこの製造方法の実施に用いる治具
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-004635   Applicant：ダイヤライトジャパン株式会社