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J-GLOBAL ID:202203010293199004

水素製造装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 三好 秀和 ,  高橋 俊一 ,  伊藤 正和 ,  高松 俊雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2020153547
Publication number (International publication number):2022047644
Application date: Sep. 14, 2020
Publication date: Mar. 25, 2022
Summary:
【課題】コールドスタート可能な触媒を用いた場合であっても、取り扱いの容易な水素製造装置を提供する。 【解決手段】水素製造装置1は、Ru、Co、Rh、Ir及びNiからなる群より選択される少なくとも1種の金属を含む活性成分21と、活性成分21を担持し、アンモニアが吸着可能な酸点を有する酸化物を含む担体22とを有し、アンモニアを分解して水素を生成する担持触媒20を収容する反応容器10を備える。水素製造装置1は、アンモニアと酸素とを含む混合ガスを反応容器10に供給する供給部30と、反応容器10内にマイクロ波を照射するマイクロ波照射器50とを備える。 【選択図】図1
Claim (excerpt):
Ru、Co、Rh、Ir及びNiからなる群より選択される少なくとも1種の金属を含む活性成分と、前記活性成分を担持し、アンモニアが吸着可能な酸点を有する酸化物を含む担体とを有し、アンモニアを分解して水素を生成する担持触媒を収容する反応容器と、 アンモニアと酸素とを含む混合ガスを前記反応容器に供給する供給部と、 前記反応容器内にマイクロ波を照射するマイクロ波照射器と、 を備え、 前記酸点へアンモニアが吸着することにより前記担持触媒が発熱する、水素製造装置。
IPC (3):
C01B 3/04 ,  B01J 29/62 ,  B01J 23/46
FI (3):
C01B3/04 B ,  B01J29/62 M ,  B01J23/46 301M
F-Term (33):
4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169AA09 ,  4G169BA01A ,  4G169BA02A ,  4G169BA07A ,  4G169BA07B ,  4G169BB04A ,  4G169BB04B ,  4G169BB06A ,  4G169BB06B ,  4G169BC16A ,  4G169BC43A ,  4G169BC43B ,  4G169BC51A ,  4G169BC51B ,  4G169BC67A ,  4G169BC68A ,  4G169BC70A ,  4G169BC70B ,  4G169BC71A ,  4G169BC74A ,  4G169BD02A ,  4G169BD02B ,  4G169BD05A ,  4G169DA05 ,  4G169EA01Y ,  4G169FB14 ,  4G169FB29 ,  4G169FB57 ,  4G169ZA01A ,  4G169ZA19A ,  4G169ZA19B
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3) Cited by examiner (6)
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Article cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 触媒の酸化熱を利用したアンモニアの酸化分解による水素製造プロセスのコールドスタート

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