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J-GLOBAL ID:201903020722544459
触媒反応による水素の製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (3):
特許業務法人イイダアンドパートナーズ
, 飯田 敏三
, 赤羽 修一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2017214880
Publication number (International publication number):2019085302
Application date: Nov. 07, 2017
Publication date: Jun. 06, 2019
Summary:
【課題】形成したシングルモード定在波の電界強度分布を、瞬時に、所望の電界強度分布状態へと切り替えることができ、それにより被加熱体の加熱領域を制御する技術と、それを利用した接触分解反応による水素の製造方法を提供する。【解決手段】加熱した触媒がアンモニア、アルコール、及び飽和炭化水素から選ばれる化合物に作用して生じる接触分解反応により水素を得ることを含む水素の製造方法であって、前記水素の製造方法は、内部に前記触媒を配した空胴共振器1に対し、空胴共振器1内に定在波を形成できる周波数のマイクロ波を、空胴共振器1に設けられた2つ以上のマイクロ波供給口2,3から同時にかつ位相を調整して供給し、空胴共振器1内に定在波を形成して前記触媒の加熱領域を制御することを含む、水素の製造方法。【選択図】図1
Claim (excerpt):
加熱した触媒がアンモニア、アルコール、及び飽和炭化水素から選ばれる化合物に作用して生じる接触分解反応により水素を得ることを含む水素の製造方法であって、
前記水素の製造方法は、内部に前記触媒を配した空胴共振器に対し、該空胴共振器内に定在波を形成できる周波数のマイクロ波を、該空胴共振器に設けられた2つ以上のマイクロ波供給口から同時にかつ位相を調整して供給し、該空胴共振器内に定在波を形成して前記触媒の加熱領域を制御することを含む、水素の製造方法。
IPC (8):
C01B 3/26
, H05B 6/64
, H05B 6/74
, C01B 3/04
, C01B 3/22
, B01J 35/02
, H05B 6/80
, H05B 6/70
FI (8):
C01B3/26
, H05B6/64 D
, H05B6/74 E
, C01B3/04 B
, C01B3/22 A
, B01J35/02 G
, H05B6/80 Z
, H05B6/70 F
F-Term (27):
3K090AA01
, 3K090AB20
, 3K090BB16
, 3K090CA16
, 4G140DA01
, 4G140DA03
, 4G140DB03
, 4G140DC01
, 4G140DC02
, 4G140DC03
, 4G140DC05
, 4G140DC07
, 4G169AA03
, 4G169BC02A
, 4G169BC03A
, 4G169BC05A
, 4G169BC09A
, 4G169BC10A
, 4G169BC31A
, 4G169BC67A
, 4G169BC68A
, 4G169BC70A
, 4G169CB07
, 4G169CB81
, 4G169DA06
, 4G169EA18
, 4G169EE03
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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内燃機関の排気浄化システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2015-116667
Applicant:トヨタ自動車株式会社
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水素生成システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2015-115994
Applicant:学校法人上智学院
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化学反応装置、及び化学反応方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2014-000811
Applicant:マイクロ波化学株式会社, 国立大学法人東京工業大学
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マイクロ波加熱装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2013-173007
Applicant:株式会社東芝
-
マイクロ波処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2008-314043
Applicant:パナソニック株式会社
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プラズマ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-275393
Applicant:東京エレクトロン株式会社, 日本高周波株式会社
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