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J-GLOBAL ID:201803012041716049

水素製造装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 三好 秀和 ,  高橋 俊一 ,  伊藤 正和 ,  高松 俊雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2016157734
Publication number (International publication number):2018024555
Application date: Aug. 10, 2016
Publication date: Feb. 15, 2018
Summary:
【課題】簡易な方法で水素ガスを製造することができる水素製造装置を提供する。【解決手段】水素製造装置1は、マイクロ波照射装置2と、マイクロ波照射装置2から発振されるマイクロ波をTM0n0モード(nは1以上の整数)で共振させる円筒空胴共振器3と、円筒空胴共振器3内の電界強度が極大となる位置に、円筒空胴共振器3の軸方向と平行に貫通して配置され、アンモニアガスを通過させる反応管4と、反応管4内に充填され、アンモニアガスを分解して水素ガスを製造する水素製造用触媒5と、を備える。【選択図】図2
Claim (excerpt):
マイクロ波照射装置と、 マイクロ波照射装置から発振されるマイクロ波をTM0n0モード(nは1以上の整数)で共振させる円筒空胴共振器と、 前記円筒空胴共振器内の電界強度が極大となる位置に、前記円筒空胴共振器の軸方向と平行に貫通して配置され、アンモニアガスを通過させる反応管と、 前記反応管内に充填され、アンモニアガスを分解して水素ガスを製造する水素製造用触媒と、を備える水素製造装置。
IPC (1):
C01B 3/04
FI (1):
C01B3/04 B
F-Term (5):
5H127AC07 ,  5H127AC15 ,  5H127BA01 ,  5H127BA11 ,  5H127EE12
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
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