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J-GLOBAL ID:202203011907690229

被覆フォトクロミック微粒子の製造方法およびそれを用いた被覆フォトクロミック微粒子の製造装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 中道 佳博 ,  藤原 有希
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2021121068
Publication number (International publication number):2022039987
Application date: Jul. 21, 2021
Publication date: Mar. 10, 2022
Summary:
【課題】 使用するフォトクロミック化合物の種類に関わらず、所望のフォトクロミック微粒子を効率良く製造することのできる、被覆フォトクロミック微粒子の製造方法およびそれを用いた被覆フォトクロミック微粒子の製造装置を提供すること。 【解決手段】 本発明の被覆フォトクロミック微粒子の製造方法は、フォトクロミック芯材粒子と高分子と極性溶媒と低極性有機溶媒との予備混合物に超音波を直接照射してO/Wエマルションを調製する工程、閉塞された容器内において、O/Wエマルションを超臨界流体と混合する工程、および閉塞された容器内を開放する工程を包含する。 【選択図】 図6
Claim (excerpt):
被覆フォトクロミック微粒子の製造方法であって、 フォトクロミック芯材粒子と高分子と極性溶媒と低極性有機溶媒との予備混合物に超音波を直接照射してO/Wエマルションを調製する工程、 閉塞された容器内において、該O/Wエマルションを超臨界流体と混合する工程、および 該閉塞された容器内を開放する工程、 を包含する、方法。
IPC (1):
C09K 9/02
FI (1):
C09K9/02 B
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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