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J-GLOBAL ID:202203012735002810
シリコンウェーハ切断方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2020112218
Publication number (International publication number):2022011225
Application date: Jun. 30, 2020
Publication date: Jan. 17, 2022
Summary:
【課題】表面の繊細な機能的構造の損傷を回避し、ウェーハを個々のチップに正確に切断し、正確なパターン形成を導けるウェーハ切断方法を提供する。
【解決手段】両面研磨されたシリコンウェーハであって、機能的構造が準備される表面と当該表面と対になる裏面を有する前記シリコンウェーハを準備する工程と、前記シリコンウェーハの表面に複数の貫通穴および機能的構造を形成する工程と、前記貫通穴によって定義された切断経路に沿って前記シリコンウェーハをダイシングする工程とを備え、前記シリコンウェーハから切断分離された個々のチップには、少なくとも1種類の機能が含まれていることを特徴とするシリコンウェーハ切断方法。
【選択図】図1A
Claim (excerpt):
両面研磨されたシリコンウェーハを準備する工程と;
前記シリコンウェーハに複数の貫通穴を形成すると共に、前記シリコンウェーハの表側表面に複数の機能的構造を形成する工程と;
前記シリコンウェーハの表側表面を保護基板に取り付けることにより、前記シリコンウェーハの裏側表面にパターンを作成する際の損傷から表側表面を保護する工程と;
前記シリコンウェーハをダイシングする工程であって、ウェーハステージ上に前記シリコンウェーハの裏側表面を堅固に取り付けて、前記シリコンウェーハをウェーハキャリアステージに載置する工程と、貫通穴によって規定される経路に沿ってダイシングソーにより前記シリコンウェーハを切断する工程とを含むと共に、
前記ダイシングソーまたは前記ウェーハキャリアステージは回動可能であり、ダイシングソーを定義された前記経路に合わせるように前記回動の状態を制御して、前記シリコンウェーハから切断され分離された矩形形状の各チップが少なくとも1つの機能的構造を含むように切り離すことを特徴とする、シリコンウェーハの切断方法。
IPC (2):
FI (3):
H01L21/78 Q
, H01L21/78 S
, H01J37/18
F-Term (8):
5C033KK09
, 5F063AA02
, 5F063BA25
, 5F063BA32
, 5F063CA04
, 5F063DE02
, 5F063DE32
, 5F063EE63
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
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半導体製造装置及び半導体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2014-067433
Applicant:株式会社東京精密
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半導体装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2016-098859
Applicant:トヨタ自動車株式会社
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