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J-GLOBAL ID：202203014305686556

修飾多糖、ガス分離膜形成用材料、フィルム、ガス分離膜、ガス分離膜モジュールおよびガス分離方法

Inventor： 兼橋 真二 ,  荻野 賢司 ,  青木 仁史 ,  鎌形 潤一 ,  北河 章宏
Applicant, Patent owner： 国立大学法人東京農工大学 ,  株式会社ニチレイフーズ
Agent (3)： 中村 行孝 ,  朝倉 悟 ,  反町 洋
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2020183184
Publication number (International publication number)：2022073291
Application date： Oct. 30, 2020
Publication date： May. 17, 2022
Summary：

【課題】ガス透過性およびガス選択性(ガス分離性)のバランスに優れたガス分離膜を製造することを可能とする材料を提供する。 【解決手段】多糖骨格と、芳香環、および当該芳香環に直接結合した炭素-炭素不飽和二重結合を含むモノカルボン酸、そのエステル、ならびにその酸ハライドから選ばれる少なくとも1種に由来する、多糖骨格に結合した構造とを含む修飾多糖。 【選択図】なし

Claim (excerpt)：

多糖骨格と、芳香環、および当該芳香環に直接結合した炭素-炭素不飽和二重結合を含むモノカルボン酸、そのエステル、ならびにその酸ハライドから選ばれる少なくとも1種に由来する、前記多糖骨格に結合した構造と を含む修飾多糖。

IPC (4)：

C08B 3/10 ,  B01D 53/22 ,  B01D 71/08 ,  B01D 71/12

FI (4)：

C08B3/10 ,  B01D53/22 ,  B01D71/08 ,  B01D71/12

F-Term (49)：

4C090AA02 ,  4C090AA07 ,  4C090BA25 ,  4C090BB97 ,  4C090BC10 ,  4C090BD36 ,  4C090CA38 ,  4C090DA06 ,  4D006GA41 ,  4D006HA01 ,  4D006HA21 ,  4D006HA41 ,  4D006HA61 ,  4D006MA01 ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MA06 ,  4D006MA09 ,  4D006MA31 ,  4D006MB04 ,  4D006MC16 ,  4D006MC21 ,  4D006MC22 ,  4D006MC23 ,  4D006MC24 ,  4D006MC28 ,  4D006MC29 ,  4D006MC30 ,  4D006MC39 ,  4D006MC43 ,  4D006MC48 ,  4D006MC53 ,  4D006MC54 ,  4D006MC58 ,  4D006MC61 ,  4D006MC62 ,  4D006MC63 ,  4D006MC71 ,  4D006MC88 ,  4D006NA03 ,  4D006NA10 ,  4D006NA45 ,  4D006NA64 ,  4D006PA01 ,  4D006PB62 ,  4D006PB63 ,  4D006PB64 ,  4D006PB68 ,  4D006PB70

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• ガス分離膜、ガス分離モジュール、ガス分離装置、及びガス分離方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2017-037647   Applicant：富士フイルム株式会社